Systeme zum Ionenstrahlätzen

Vollflächiges Ätzen

 

System für Kleinserien- und F&E-Anwendungen von Substraten bis zu 150 mm

  • Ionenstrahlätzen
  • Reaktives Ionenstrahlätzen (RIBE)
  • Chemisch-unterstützes Ionenstrahlätzen (CAIBE)

scia Mill 150

 

 

Fertigungserprobtes System für die Massenproduktion von Wafern bis zu 200 mm

  • Ionenstrahlätzen
  • Reaktives Ionenstrahlätzen (RIBE)
  • Chemisch-unterstützes Ionenstrahlätzen (CAIBE)

scia Mill 200

 

scia Mill 300

 

System zum vollflächigen Ätzen von Wafern bis zu 300 mm

  • Ionenstrahlätzen
  • Reaktives Ionenstrahlätzen (RIBE)
  • Chemisch-unterstützes Ionenstrahlätzen (CAIBE)

scia Mill 300

 

Lokale Oberflächenkorrektur

 

System zur Großserienproduktion für die Schichtdickenkorrektur auf Wafern bis 200 mm

  • Ionenstrahltrimmen
  • Ionenstrahlpolieren

scia Trim 200

 

Präzise Oberflächen­korrektur für gleich­mäßige Beschichtungen auf Wafern bis 300 mm

  • Ionenstrahltrimmen
  • Ionenstrahlpolieren

scia Trim 300

 

Polierfehlerkorrektur von hochpräzisen optischen Elementen bis Ø 1500 mm

  • Ionenstrahlpolieren
     

scia Finish 1500

Weitere Informationen