Systeme zum Ionenstrahlätzen

Vollflächiges Ätzen

 

System für Kleinserien- und F&E-Anwendungen von Substraten bis zu 150 mm

  • Ionenstrahlätzen
  • Reaktives Ionenstrahlätzen (RIBE)
  • Chemisch-unterstützes Ionenstrahlätzen (CAIBE)

scia Mill 150

 

 

Fertigungserprobtes System für die Massenproduktion von Wafern bis zu 200 mm

  • Ionenstrahlätzen
  • Reaktives Ionenstrahlätzen (RIBE)
  • Chemisch-unterstützes Ionenstrahlätzen (CAIBE)

scia Mill 200

 

scia Mill 300

 

System zum vollflächigen Ätzen von Wafern bis zu 300 mm

  • Ionenstrahlätzen
  • Reaktives Ionenstrahlätzen (RIBE)
  • Chemisch-unterstützes Ionenstrahlätzen (CAIBE)

scia Mill 300

 

Lokale Oberflächenkorrektur

 

System zur Großserienproduktion für die Schichtdickenkorrektur auf Wafern bis zu 200 mm

  • Ionenstrahltrimmen
  • Ionenstrahlpolieren

scia Trim 200

 

Polierfehlerkorrektur von hochpräzisen optischen Elementen bis zu 1500 mm Durchmesser

  • Ionenstrahlpolieren
     

scia Finish 1500

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