Reaktives Ionenätzen von Antireflex-Nanostrukturen mit Mottenaugeneffekt auf 3D-Oberflächen

In vielen Bereichen der modernen Optik ist eine Reflex-Wirkung unerwünscht. Konventionell wird eine Minderung der Reflexion auf der Oberfläche durch das Aufbringen einer oder mehrerer zusätzlicher Dünnschichten mit einer Dicke bis zu wenigen µm erzielt. Im Vergleich dazu hat die Verwendung von Antireflex-Nanostrukturen auf optischen Substraten mehrere physikalische Vorteile, darunter das Fehlen von konstruktiven Interferenzeffekten, eine geringe Abhängigkeit vom Einfallswinkel und der Wellenlänge der Strahlung sowie die Vermeidung möglicher Schichtabtragungen. Die Herstellung von antireflektierenden Nanostrukturen ist zudem auch potenziell wirtschaftlich attraktiver als die Herstellung von Mehrlagenbeschichtungen.

Aufgrund dieser Eigenschaften ist die moderne Optikindustrie bestrebt, Verfahren für die Nanostrukturierung und für hochwertige Antireflexionsschichten zu entwickeln, nicht nur für ebene Substrate, sondern auch für voluminöse, sphärische und asphärische Linsen.

Im Rahmen des Projektes „arivo3d“ wird dazu an der Ernst-Abbe-Hochschule Jena eine neuartige Methode zur Herstellung von nanostrukturierten Oberflächen entwickelt: Inspiriert von nachtaktiven Insekten, insbesondere Motten, zielen die neuen kegelförmigen Antireflex-Nanostrukturen auf eine breitbandige Entspiegelung ab, ohne auf herkömmliche Dünnschichten zurückzugreifen.

 

scia Etch 300 als Schlüssel zur Herstellung fortschrittlicher optischer Oberflächen

Zur Herstellung dieser Strukturen verwendet die EAH Jena eine scia Etch 300 zum Plasma­ätzen. Die Anlage setzt ein spezielles reaktives Ionenätzen (Reactive Ion Etching, RIE) auf Substraten bis 300 mm Durchmesser und auf stark gekrümmten, voluminösen, dreidimensionalen Körpern, wie z. B. Linsen, Spiegeln und Prismen um. Dadurch wird die Forschung im Bereich der Nano-Optik vorangetrieben und die Entwicklung von Antireflex-Nanostrukturen maßgeblich beschleunigt.

Wir wünschen der EAH Jena viel Erfolg bei ihrem Vorhaben und freuen uns schon jetzt auf viele spannende Forschungsergebnisse.

 

Website der Ernst-Abbe-Hochschule Jenawww.eah-jena.de

Technologie

Erfahren Sie mehr über  Reaktives Ionen­ätzen und weitere Ionenstrahl- und Plasma­prozesse in unserem Technologie-Überblick.

Anwendung

In unserer Application Note zeigen wir Ihnen, wie Ionenstrahlsputtern für Hochreflektierende und Antireflexbeschichtung eingesetzt wird.

Produkt

Die scia Cluster 200 ist das ideale System für all Ihre Prozesse auf Wafern bis 200 mm für hohen Durchsatz oder höchste Flexibilität.

 

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Weitere Informationen

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