Die All-in-One-Cluster-Lösung
Der scia Cluster 200 ist eine modulare Plattform für Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse, die auf modernsten Ionenstrahl- und Plasmatechnologien basiert. Cluster-Systeme gibt es in zwei unterschiedlichen Ausführungen: Entweder beinhalten sie mehrere identische Prozesskammern, die für eine erhebliche Durchsatzsteigerung kombiniert werden können, oder es werden verschiedene Prozesstechnologien kombiniert, um aufeinanderfolgende Prozessschritte auf einem einzigen Wafer ohne Unterbrechung des Vakuums zu realisieren.
Der scia Cluster 200 kann individuell entsprechend der Anwendung des Kunden konfiguriert werden, wobei bis zu fünf Prozesskammern und eine oder zwei Ladeschleusen an der zentralen Transferkammer installiert werden können.