Multilagenbeschichtung für optische Substrate

Die scia Magna-Serie umfasst hochentwickelte Magnetron-Sputteranlagen, die für hochpräzise Multilagenbeschichtungen auf optischen Substraten entwickelt wurden und eine Präzision im (Sub-)Nanometerbereich erreichen. Jedes System kann mit bis zu sechs Magnetrons ausgestattet werden und ermöglicht die Abscheidung komplexer mehrlagiger Stapel aus verschiedenen Zielmaterialien - ohne dass das Vakuum unterbrochen werden muss.

Ausgestattet mit automatisiertem Substrathandling ermöglichen die Modelle scia Magna 400 Inline, scia Magna 500 Inline, scia Magna 700 Inline und scia Magna 1200 Inline einen vollautomatischen, rezeptgesteuerten Prozess. Die präzise, positionsgesteuerte Substratbewegung ermöglicht definierte Gradientenschichten und eine hervorragende Abscheidungsgleichmäßigkeit.

Eigenschaften und Vorteile

Multilagenbeschichtungen durch Inline-Anordnung mehrerer Prozessquellen
Homogene oder Gradientenschichten auf optischen Substraten durch synchrone lineare Bewegung und Spinrotation
lineare Magnetron-Sputterquellen
Optionale Oberflächenbearbeitung durch Ionenquelle
Vertikale Ausrichtung des Substrats für minimale Partikelbelastung

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Anwendungen

Abwechselnder Stapel aus (Si/Mo)₂₃ für Bragg-Spiegel. Die Ergebnisse zeigen sehr reproduzierbare Dicken für jede Periode

Gradienten-Multilagenbeschichtungen von Spiegeloptiken für EUV
Multilagenstapel für Röntgenspiegel für Beamlines und analytische Anwendungen

Prinzip

Inline-Anordnung mit 6 Magnetron-Sputterquellen
Lineare Substratbewegung entlang der Magnetrons und überlagerte Substratrotation

Technologien

Magnetronsputtern / Magnetron Sputtering
Auch Kathodenzerstäubung. Plasmaionenbeschuss auf ein Target, welches direkt auf der Kathode platziert wird, um dünne Schichten auf dem Substrat abzuscheiden.

Detailinformationen

scia Magna 400 Inline

Substratgröße (bis zu)	400 mm x 300 mm, Ø 300 mm für Substratrotation
Sputterquellen	6 rechteckige Magnetrons (305 mm x 89 mm), Ionenquelle möglich
Sputtermodi	DC im CW- oder gepulsten Modus (1,5 oder 3 kW) und/oder HF (1,5 oder 3 kW, 13.56 MHz)
Typische Abscheideraten (dynamisch)	Mo: 50 nm·mm/s, Si: 35 nm·mm/s
Homogenitätsabweichung	< 1 % (σ/mean) über Ø 300 mm
Basisdruck	< 5 x 10^-8 mbar
Systemabmessungen (L x B x H)	8,10 m x 1,40 m x 2,80 m (ohne Schaltschrank und Pumpen)
Konfiguration	Inline-System mit Schleuse und Ladestation, an beiden Enden möglich
Softwareschnittstellen	SECS II / GEM, OPC

scia Magna 500 Inline

Substratgröße (bis zu)	500 mm x 300 mm, Ø 300 mm für Substratrotation
Sputterquellen	6 rechteckige Magnetrons (305 mm x 89 mm), Ionenquelle möglich
Sputtermodi	DC im CW- oder gepulsten Modus (1,5 oder 3 kW) und/oder HF (1,5 oder 3 kW, 13.56 MHz)
Typische Abscheideraten (dynamisch)	Mo: 50 nm·mm/s, Si: 35 nm·mm/s
Homogenitätsabweichung	< 1 % (σ/mean) über Ø 300 mm
Basisdruck	< 5 x 10^-8 mbar
Systemabmessungen (L x B x H)	8,10 m x 1,40 m x 2,80 m (ohne Schaltschrank und Pumpen)
Konfiguration	Inline-System mit Schleuse und Ladestation, an beiden Enden möglich
Softwareschnittstellen	SECS II / GEM, OPC

scia Magna 700 Inline

Substratgröße (bis zu)	700 mm x 450 mm, Ø 450 mm für Substratrotation
Sputterquellen	6 rechteckige Magnetrons (609 mm x 89 mm), Ionenquelle möglich
Sputtermodi	DC im CW- oder gepulsten Modus (bis zu 3 kW) und/oder HF (bis zu 3 kW, 13,56 MHz)
Typische Abscheideraten (dynamisch)	Mo: 50 nm·mm/s, Si: 35 nm·mm/s
Homogenitätsabweichung	< 1 % (σ/mean) über Ø 300 mm
Basisdruck	< 5 x 10^-8 mbar
Systemabmessungen (L x B x H)	9,10 m x 2,50 m x 2,80 m (ohne Schaltschrank und Pumpen)
Konfiguration	Inline-System mit Schleuse und Ladestation, an beiden Enden möglich
Softwareschnittstellen	SECS II / GEM, OPC

scia Magna 1200 Inline

Substratgröße (bis zu)	1200 - 1600 mm x 350 mm, Ø 350 mm für Substratrotation
Sputterquellen	6 rechteckige Magnetrons (508 mm x 89 mm), Ionenquelle möglich
Sputtermodi	DC im CW- oder gepulsten Modus (bis zu 2 kW) und/oder HF (bis zu 2 kW, 13,56 MHz)
Typische Abscheideraten (dynamisch)	Mo: 50 nm·mm/s, Si: 35 nm·mm/s
Homogenitätsabweichung	< 1 % (σ/mean) über Ø 300 mm
Basisdruck	< 5 x 10^-8 mbar
Systemabmessungen (L x B x H)	10,30 m x 2,50 m x 2,80 m (ohne Schaltschrank und Pumpen)
Konfiguration	Inline-System mit Schleuse und Ladestation, an beiden Enden möglich
Softwareschnittstellen	SECS II / GEM, OPC