Multilagen auf 300 mm Substraten

Die scia Multi 300 wurde in zwei Versionen entwickelt, einer scia Multi 300 Wafer für Waferbeschichtungen und einer scia Multi 300 Optics für die Beschichtung optischer Baugruppen durch Magnetronsputtern (Kathodenzerstäubung).

scia Multi 300 Wafer: Die Anlage kann mit bis zu vier Magnetrons bestückt werden und somit hochpräzise Mehrschicht-Stapel aus vier Targetmaterialien erzeugen, ohne das Vakuum zu unterbrechen. Die Anlage ist durch Konfiguration des Gassystems und der Generatoren zur Abscheidung von Metall- bzw. leitfähigen Schichten ausgelegt. Eine Kassettenschleuse mit automatischem Substrattransfer und die Anlagensteuerung garantieren einen vollautomatischen und rezeptgesteuerten Prozess.

scia Multi 300 Optics: Die Anlage kann mit bis zu sechs Magnetrons bestückt werden und somit hochpräzise Mehrschicht-Stapel aus sechs Targetmaterialien erzeugen, ohne das Vakuum zu unterbrechen. Die Anlage ist durch Konfiguration des Gassystems und der Generatoren zur Abscheidung von Metall- bzw. leitfähigen Schichten ausgelegt. Die Anlage ist mit einer Einzelschleuse für Halter für optische Baugruppen (Carrier) ausgestattet. Es können großvolumige und schwere optische Bauteile individuell an den Halter angepasst werden.