Homogene Multilagen auf 300 mm Wafern

Die scia Multi 300 wurde speziell zur Herstellung hochwertiger Multilagenbeschichtungen auf Wafern bis zu 300 mm durch Magnetronsputtern (Kathodenzerstäubung) entwickelt.  Die Anlage kann mit bis zu vier Magnetrons bestückt werden und somit hochpräzise Mehrschicht-Stapel aus vier Targetmaterialien erzeugen, ohne das Vakuum zu unterbrechen. Die Abscheidung von Metallschichten ist dabei ebenso möglich wie die von Oxid- und Nitridschichten. Die Kassettenschleuse mit automatischem Substrattransfer und die Anlagensteuerung garantieren einen vollautomatischen und rezeptgesteuerten Prozess.

Eigenschaften und Vorteile

  • Ausgezeichnete Homogenität über 300 mm Substratfläche
  • Synchrone orbitale und Spin-Rotation für homogene Multilagenstapel auf Wafern
  • Bis zu 4 Magnetrons, jeder mit individueller Gasversorgung und eigner Shutter-Einheit
  • Beladeschleuse mit automatischem Kassettenhandling
  • Positionierung der Substrate kopfüber (face-down) für minimale Partikelbelastung

Anwendungen

  • Gradienten-Multilagenbeschichtungen für Spiegeloptiken für Lithografie und Antireflexbeschichtungen
  • Multilagenstapel für EUV­- und Röntgenspiegel
  • Multilagenbeschichtungen basierend auf dem GMR- und TMR-Prinzip
  • Multilagenbeschichtung für UV-Übertragungs- und VIS-Optiken

Prinzip

  • Kreisförmige Substratbewegung über die Magnetrons, jede orbitale Rotation beendet eine Periode des Multilagenstapels
  • Vorausberechnung der Rotationsprofile, um individuelle Emissionsprofile der Magnetrons zu kompensieren
     

Technologien

  • Magnetronsputtern /Magnetron Sputtering
    Auch Kathodenzerstäubung. Plasmaionenbeschuss auf ein Target, welches direkt auf der Kathode platziert wird, um dünne Schichten auf dem Substrat abzuscheiden.

Technische Daten

Substratgröße (bis zu)

Ø 300 mm

Sputter-Quellen

Bis zu 4 rechteckige Magnetrons (400 mm x 90 mm)

Sputter-Modi

DC im cw- oder gepulsten Modus (1 kW) und/oder
HF (1 kW, 13,56 MHz)

Typische Abscheiderate

Cu: 43 nm/min, Co: 26 nm/min

Homogenitätsabweichung

< 0.6 % (σ/mean) über Ø 300 mm

Basisdruck

< 8 x 10-8 mbar

Systemabmessungen (L x B x H)

3,60 m x 2,70 m x 2,30 m (ohne Schaltschrank und Pumpen)

Konfiguration

Einzelkammer mit Schleuse für Kassettenhandling

Softwareschnittstellen

SECS II, OPC

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Produkt Flyer scia Multi 300

 

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