Ionenstrahlsputtern von dielektrischen Schichten auf großen optischen Substraten

Die homogene Ab­scheidung optischer Schichten auf großen ebenen Substraten gestaltet sich durch die meist punkt­förmigen Verdampfer­quellen und die Ab­wesenheit eines komplexen Bewegungs­systemes schwierig. Die Nutzung von Ionen­strahlsputtern (engl. Ion Beam Sputtering, IBS) ermöglicht, verglichen mit kon­kur­rie­renden Verfahren, deutlich höhere Energien der am Substrat an­kommenden Teil­chen. Daher ergibt dieses Abscheidungs­verfahren im Allgemeinen dichtere Schichten mit Eigen­schaften nahe den der entsprechenden Bulk­materialien.

Al₂O₃ wurde in dieser Anwendung als Teil einer Anti­reflex­schicht auf einem optischen Glas abgeschieden. Der Prozess wurde reaktiv vom metallischen Target durch­geführt, in dem Sauer­stoff als reaktives Hinter­grund­gas benutzt wurde.

Die Substrat­abmessung betrug 500 mm x 300 mm.

...

Passendes Produkt - scia Coat 500

• Beschichtung von großen Substraten bis zu 500 mm x 300 mm oder 300 mm Durchmesser
• Lineare Bewegung und/oder Rotation der Substrathalterung vollständig CAM-gesteuert, zur Herstellung von Gradientenschichten
• Targettrommel für 6 wassergekühlte Targets zur automatischen Abscheidung von Multilagenschichten
• Durch Rezept wählbarer Shaper, für die zielspezifische Steuerung der Homogenität
• Homogenität bis zu 2 % auf großen Substraten und 0.5 % auf 200 mm Wafern