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Das Fraunhofer-Institut für Zuverlässigkeit und Mikrointegration (IZM) in Berlin hat scia Systems den Zuschlag für eine Ionenstrahlätzanlage erteilt.

Das System wird im Rahmen der vom BMBF unterstützten Initiative „Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland“ beschafft und dient vorrangig der Herstellung von metallischen Mikrostrukturen auf Halbleitersubstraten. Dazu werden je nach abzutragendem Metall und dessen Anordnung im Schichtsystem sowohl inerte Gase, wie zum Beispiel Argon, als auch reaktive Gase bzw. Gasgemische genutzt.

Wir freuen uns, dem Fraunhofer IZM mit der scia Mill 300 eine Ionenstrahlätzanlage für 300 mm Wafer zu liefern. Kernbestandteil der Anlage ist eine neu entwickelte Ionenstrahlquelle für diese Substratgröße. Mit der Weiterentwicklung des bestehenden Produktportfolios kann scia Systems Kundenwünsche für größere Substrate besser bedienen.

Zusammen mit 30 Projektpartnern aus 8 europäischen Ländern arbeitet scia Systems im Rahmen des HiPERFORM - Projektes an der Einführung von Leistungselektronik basierend auf Wide-Band-Gap-Halbleitern (WBG) im Antriebsstrang von Elektrofahrzeugen. Die Hauptforschungsfragen umfassen die Bereiche Kostenreduktion, Energieeffizienz und geringeres Volumen der Bauteile. Erforscht werden dabei sowohl neue Materialien als auch verbesserte Herstellungsverfahren wie die kosteneffektive Abscheidung von Galliumnitrid (GaN) durch Magnetronsputtern. Teilthema von scia Systems ist die Entwicklung eines geeigneten Substrathalters für die besonderen Anforderungen hinsichtlich Temperatur und Prozesszeit bei den Abscheideverfahren.

Das Institut Solare Brennstoffe des Helmholtz-Zentrums Berlin für Materialien und Energie (HZB) hat im Rahmen einer Ausschreibung scia Systems mit der Lieferung einer Cluster-Beschichtungsanlage beauftragt.

Am HZB sollen damit nanostrukturierte Dünnschichten für die Herstellung von Photoelektroden erzeugt werden. Diese dienen der effizienten Brennstoffgewinnung durch Spaltung von Wasser in Wasserstoff und Sauerstoff. Zur Erzeugung solcher Nanostrukturen ist eine Schichtabscheidung unter streifendem Teilchenbeschuss notwendig (engl. glancing angle deposition, kurz GLAD).

Die scia Vario 100 setzt das GLAD-Prinzip mit einem eigenentwickeltem Substrathalter in Verbindung mit einer automatischen Schlitzblende um. Als Prozessparameter werden dabei die Kippung, Rotation und Temperierung des Substrathalters eingesetzt. Der Abstand zur Beschichtungsquelle sowie die Schlitzweite und -geschwindigkeit können ebenso prozessbezogen angepasst werden. Die Abscheidung erfolgt in getrennten Prozesskammern mittels Elektronenstrahlverdampfen bzw. Dualer Ionenstrahlabscheidung (engl. dual ion beam sputter deposition, kurz DIBD).

scia Systems liefert eine scia Trim 200 an den Produktionsstandort von Akoustis Technologies, Inc. in Canandaigua, NY.

Akoustis® ist ein HF-Filterhersteller, der mit der einzigartigen patentierten XBAW™ Technologie einkristalline akustische Volumenwellen (BAW) HF-Filter für die Mobilkommunikation und andere drahtlose Anwendungen produziert.

Mit der scia Trim 200 werden die BAW-Bauelemente präzise auf die spezifizierte Frequenz getrimmt. Dies ermöglicht es Akoustis, die Ausbeute zu maximieren sowie die Kosten zu senken und die Qualität zu optimieren. scia Systems bietet nicht nur komplette Anlagensysteme, sondern auch einen ausgezeichneten Service und technischen Support, um die Bauteilproduzenten beim Erreichen ihre Produktionsziele zu unterstützen.

scia Systems erhielt den Zuschlag bei einer Ausschreibung vom NASA Goddard Space Flight Center, in Greenbelt, MD, USA, zur Lieferung einer Ionenstrahlkorrekturanlage, scia Trim 200.

Das NASA GSFC hat landesweit eine der größten Gruppen aus Forschern und Ingenieuren, die sich mit dem Bau von Raumfahrzeugen und Instrumenten sowie der Entwicklung neuer Technologien zur Erforschung der Erde, der Sonne, unseres Sonnensystems und des Universums beschäftigen.

Die scia Trim 200 soll zur Formfehlerkorrekur von monokristallinen Spiegeln für Röntgenteleskope genutzt werden. scia Systems freut sich auf die Zusammenarbeit mit der NASA und die Möglichkeit, das Verständnis unseres Universums voranzutreiben.

scia Systems erhielt den Zuschlag bei der Ausschreibung eines Ionenstrahlätz- und Abscheidungssystems von Sofradir, Frankreich. Die Sofradir-Gruppe ist führend in der Entwicklung und Herstellung von Infrarotsensoren für militärische, raumfahrttechnische, kommerzielle und industrielle Anwendungen. Wir freuen uns darauf, Sofradir eine scia Coat 200 für die Entwicklung und Produktion von Infrarotsensoren auf Basis der III-V-Halbleiterverbindungstechnologie zu liefern.

Neben unseren Superläufern, die auch in diesem Jahr wieder alles aus sich rausholten, ging erstmalig ein Kreativteam für uns an den Start. Mit viel Liebe zum Detail und Engagement wurde eine unserer dauerlauferprobten Ionenstrahlquellen renntauglich nachgebaut. Das Erreichen des zweiten Platzes ließ dann nicht mehr nur die Quelle, sondern auch die Mitglieder des Teams „Raketenigel“ strahlen.

Wir möchten uns bei den Läufern für die zahlreiche Teilnahme bedanken und hoffen, ihr hattet einen schönen sportlichen Abend.  Wir freuen uns schon auf nächstes Jahr!

Zusammen mit den Projektpartnern arbeitet scia Systems im Rahmen des DANAE-Projektes an der Entwicklung von Dünnschicht- und Abgleichtechnologien für die nanoskalige Akustoelektronik. Ziel des Projektes ist die Schaffung von Voraussetzungen zum Abscheiden und Trimmen von in der Akustoelektronik benötigten Materialien sowie die Entwicklung notwendiger Komponenten. Das Teilthema von scia Systems lautet: Trimmtechnologien und Komponentenentwicklung für die Fertigung nanoskaliger akustoelektronischer Bauelemente.

scia Systems ist Teil eines Verbundprojektes zur Entwicklung beschichteter Mikrozerspanungswerkzeuge auf Basis von Nanoverschleißschutzschichten. Das Ziel des Verbunds aus gewerblichen Unternehmen und FuE-Einrichtungen ist die Schaffung wissenschaftlich-technischer Voraussetzungen zum prozesssicheren, industriellen Einsatz der ALD-Beschichtungstechnologie (ALD – Atomic Layer Deposition) und der Ionenstrahl-Beschichtungstechnologie (DIBD – Dual Ion Beam Deposition) im Vergleich zu PVD-Beschichtungen und Abgrenzung der Einsatzgebiete.

scia Systems erhielt den Zuschlag bei der Ausschreibung einer Ionenstrahlätzanlage der School of Electronic and Electrical Engineering der University of Leeds. Wir freuen uns der Universität mit der scia Mill 150 eine Anlage zu liefern, welche die nötige Flexibilität für die vielfältigen Anforderungen eines multidisziplinären Forschungsumfelds aufweist.