Substratgröße (bis zu) | Ø 1000 mm, Länge 850 mm, 500 kg | ||
Substratheizung | Strahlungsheizer (7,5 kW) bis zu 250 °C | ||
Kammerheizung und -kühlung | Druckwasser-basierte Heizung bis zu 150 °C und Kühlung (16 kW) | ||
Plasmaquellen | Bis zu 2 optionale ICP-Plasmaquellen (PI400), max. 2,5 kW pro Quelle | ||
Basisdruck | < 5 x 10-9 mbar | ||
Qualitätskontrolle | Massenspektrometer zur quantitativen Ausgasungsmessung | ||
Systemabmessungen | 1,60 m x 1,80 m x 2,70 m | ||
Konfiguration | Einzelkammer mit Fronttür, manuelle Beladung mit Transportwagen | ||
Softwareschnittstellen | SECS II / GEM, OPC |
Hochwertige Reinigung und Qualifizierung bis zu 3 m im Durchmesser und 3,4 m Länge
Die scia Clean 1000/1500/3000 Systeme werden zur Trockenreinigung von 3-dimensionalen Substraten mit einem Gewicht von bis zu 14 Tonnen genutzt. Design und Funktionalität der Prozesskammer gewährleisten einen sehr guten Basisdruck und ermöglichen es, auch kleinste Verunreinigungen auf dem Substrat mittels Massenspektroskopie zu quantifizieren.
- Geringer Basisdruck und schnelle Pumpzeiten durch elektropolierte und beheizte Vakuumkammer
- Separate Substratheizung für gesteigerte Desorption
- Qualifizierung der Restkontamination mittels hochsensibler Massenspektroskopie
- Variable Anzahl an Plasmaquellen für verbesserte Reinigung mit H2-Plasma
- Rezeptsteuerung für reproduzierbare Temperaturrampen und vollautomatische Reinigungszyklen
- Transfersystem zur Beladung mit schweren Substraten
- Entfernung von Verschmutzungen von 3D-Substraten mit Ultrahochvakuum (Vakuumdesorption)
- Zusätzliche Reinigung möglich durch optionale Substrat- und/oder Kammerbeheizung (Thermische Desorption) sowie Plasmavorreinigung
Technologien
- Trockenreinigung / Dry-Cleaning bietet verschiedenen Methoden um Verunreinigungen auf der Substratoberfläche unter Vakuum zu entfernen.
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