Aktuelle Nachrichten

Für den Ausbildungsstart im Herbst 2021 konnten wir unsere offenen Ausbildungsplätze erfolgreich besetzen. Wir wünschen unseren zukünftigen Azubis einen erfolgreichen Abschluss ihrer Schulzeit und freuen uns, sie im September in einen neuen Lebensabschnitt zu begleiten. 

Unser nachhaltiges Ausbildungskonzept beinhaltet, ergänzend zur eigenen Ausbildung, eine enge Zusammenarbeit mit der Bildungs-Werkstatt Chemnitz. Durch diese Verbundausbildung können alle Ausbildungsinhalte nach Berufsbildungsgesetz an unsere Auszubildenden vermittelt werden. Dabei ist die Bildungs-Werkstatt Chemnitz mit ihrem modernen und qualifizierten Bildungsangebot ein starker Partner, um die Qualität unserer Ausbildung auch zukünftig stetig zu verbessern.

Wir freuen uns auf eine weiterhin erfolgreiche Zusammenarbeit. Offene Ausbildungsstellen ab 2022 werden wir im Herbst dieses Jahrs veröffentlichen.

Wir freuen uns, Dr. Michael Gempe als neuen Geschäftsführer bei scia Systems begrüßen zu dürfen. Zusammen mit Dr. Michael Zeuner bündelt die Geschäftsführung nun ihre unterschiedlichen fachlichen Kompetenzen zu einer starken Unternehmensspitze, um den erfolgreichen Weg weiter zu gehen.

„Die Kombination aus innovativer Technologie und sehr viel persönlichem Engagement der Mitarbeiter macht den Erfolg von scia Systems aus und hat mich überzeugt, meinen Lebensmittelpunkt nach Chemnitz zu verlegen“, sagt Dr. Michael Gempe...

Mit dem von scia Systems entwickelten Substrathalter kann nun epitaktisches Aluminiumnitrid (epi-AlN) auf Silizium (111) abgeschieden werden. Dies ist ein wichtiger Schritt für die Entwicklung von GaN-basierten Schaltertechnologien, welche bis zu 30 % weniger Energieverluste aufweisen. Somit können sie für die Herstellung erschwinglicherer und effizienterer Elektro- und Hybridfahrzeuge eingesetzt werden.

Größere Wafer bedeuten geringere Kosten. Mit unserer neuen Anlage, der scia Mill 300, haben Sie alle Vorteile des Ionenstrahlätzens nun auch bei der Bearbeitung von 300 mm Wafern.

Profitieren Sie von exzellenter Präzision und Homogenität sowie einem einstellbaren Ätzwinkel und der Möglichkeit, komplexe Multilagen sowohl mit Inert- als auch mit Reaktivgasen zu bearbeiten.

Da modernes Chipdesign nach kleineren, leistungsfähigeren und kompakteren Geräten verlangt, erfordert das Reverse Engineering eine Schichtabtragung mit höchster Genauigkeit im µm-, nm- und atomaren Dickenbereich für unterschiedliche Materialien auf einmal. Ionenstrahlätzen ist in der Lage, diese strengen Anforderungen zu erfüllen.

Erfahren Sie mehr dazu unter Application Notes.

Durch die zunehmende Digitalisierung von Konferenzen und Messen mussten wir umdenken und einen neuen Weg gehen, um uns und unser Leistungsspektrum vorzustellen.

Das Ergebnis können Sie hier sehen: Unser neues Video gibt Ihnen in 30 Sekunden einen kleinen Einblick, wofür scia Systems steht.

Vor uns liegt ein aufregendes Jahr 2021, mit vielen Chancen, aber auch Herausforderungen. Die größte Herausforderung wird für uns wohl dieses Jahr unser Umzug in unseren neuen Standort, welcher bereits ab April beginnt.

Wir blicken optimistisch in die Zukunft und wünschen allen Lieferanten, Kunden und Partnern ein erfolgreiches, glückliches und spannendes Jahr 2021.

Im vergangenen Jahr gewann scia Systems eine öffentliche Ausschreibung für ein hochpräzises Schichtdicken-Trimmwerkzeug für die Verarbeitung von 200 mm Wafern vom Institut für Mikroelektronik (IME) der Agency for Science, Technology and Research (A*STAR) in Singapur.

Wir freuen uns, dass die scia Trim 200 trotz der schwierigen Bedingungen aufgrund der Pandemie geliefert, aufgebaut und installiert wurde. Wir danken unserem Partner Nanyang Equipment Pte Ltd. für ihre großartige Arbeit und ihre Unterstützung

Durch die EUV-Lithographie lassen sich wesentlich leistungsfähigere, energieeffizientere und kostengünstigere Mikrochips herstellen als jemals zuvor. Einen wesentlichen Beitrag zur Entwicklung und industriellen Serienreife der EUV-Technologie hat ein Team aus ZEISS-, Trumpf- und Fraunhofer-Experten ihrem Projekt »EUV-Lithographie – Neues Licht für das digitale Zeitalter« geleistet und wurde nun dafür belohnt:

Wir gratulieren unserem Kunden ZEISS zusammen mit Trumpf- und Fraunhofer-Experten zur Auszeichnung mit dem Deutschen Zukunftspreis 2020.

Leider war es uns aufgrund der aktuellen Situation nicht möglich, unsere Verkaufs- und Servicepartnern persönlich in Chemnitz zu treffen, wie wir es in den vergangenen Jahren getan haben. Dennoch wollten wir mit unserem weltweiten Team in Kontakt bleiben und unsere neuesten Entwicklungen und Produkterfolge austauschen. Glücklicherweise haben wir einen Weg gefunden, uns alle zusammenzubringen!

Ein großes DANKESCHÖN geht an alle Teilnehmer für Ihre Zeit und Ihre Bemühungen!

Wenn Sie mit einem unserer Verkaufs- und Servicepartner in Kontakt treten möchten, finden Sie seine Kontaktinformationen hier: bit.ly/scia_worldwide