Aktuelle Nachrichten

Durch die EUV-Lithographie lassen sich wesentlich leistungsfähigere, energieeffizientere und kostengünstigere Mikrochips herstellen als jemals zuvor. Einen wesentlichen Beitrag zur Entwicklung und industriellen Serienreife der EUV-Technologie hat ein Team aus ZEISS-, Trumpf- und Fraunhofer-Experten ihrem Projekt »EUV-Lithographie – Neues Licht für das digitale Zeitalter« geleistet und wurde nun dafür belohnt:

Wir gratulieren unserem Kunden ZEISS zusammen mit Trumpf- und Fraunhofer-Experten zur Auszeichnung mit dem Deutschen Zukunftspreis 2020.

Leider war es uns aufgrund der aktuellen Situation nicht möglich, unsere Verkaufs- und Servicepartnern persönlich in Chemnitz zu treffen, wie wir es in den vergangenen Jahren getan haben. Dennoch wollten wir mit unserem weltweiten Team in Kontakt bleiben und unsere neuesten Entwicklungen und Produkterfolge austauschen. Glücklicherweise haben wir einen Weg gefunden, uns alle zusammenzubringen!

Ein großes DANKESCHÖN geht an alle Teilnehmer für Ihre Zeit und Ihre Bemühungen!

Wenn Sie mit einem unserer Verkaufs- und Servicepartner in Kontakt treten möchten, finden Sie seine Kontaktinformationen hier: bit.ly/scia_worldwide

Am 25. September konnten sich im Rahmen der Spätschicht insgesamt 24 Besucher bei 4 Führungen unsere Reinräume ansehen, mit Mitarbeitern ins Gespräch kommen und unsere Systeme kennen lernen.

Unsere Gäste haben dabei nicht nur einen kleinen Einblick in die spannenden Anwendungsmöglichkeiten von Ionenstrahl- und Plasmatechnologien gewonnen,...

Vergangenen Freitag war es endlich soweit: wir haben zusammen mit OBAG unser Richtfest gefeiert. Trotz Abstandsregeln war es ein sehr schönes Fest, bei dem unsere Mitarbeiter und Geschäftspartner schon einen ersten Eindruck von unserem neuen Standort bekommen konnten.

Die IEEE IFCS-ISAF 2020-Konferenz fand dieses Jahr virtuell statt. Obwohl wir nicht persönlich teilnehmen konnten, sind wir dennoch stolz darauf, diese Konferenz als Gold Patron zu unterstützen und ein Video unseres Verkaufsleiters Marcel Demmler beizusteuern.

scia Systems freut sich, den Gewinn einer Ausschreibung über ein Ionenstrahlätzsystem für das Department of Materials des Imperial College London - einer der zehn besten Universitäten weltweit - bekanntzugeben.

Die scia Mill 150 wird am neuen Universitätsstandort, dem White City Campus, im Sir Michael Uren Hub stehen. Das System wir Teil des Sir-Henry-Royce-Institutes, in dem renommierte Wissenschaftler eng mit der Industrie zusammenarbeiten, um die Kommerzialisierung von fundamentaler Materialforschung voranzutreiben. Das Institut fokussiert sich auf die „Atoms 2 Devices“ (A2D)-Forschung im Bereich der Funktionsmaterialien und -devices, die die Kernkomponenten in modernen Schlüsselbereichen wie Energie, Kommunikation und Gesundheitswesen darstellen.

Die scia Mill 150 soll in Verbindung mit verschiedenen Lithographie-Techniken für die top-down-Herstellung von Devices und Strukturierungen einer weiten Bandbreite an Materialien im µm- und nm-Bereich genutzt werden.

Zusammen mit 30 Projektpartnern aus 8 europäischen Ländern arbeitet scia Systems seit mehr als 3 Jahren am HiPERFORM-Projekt. Das Projekt soll den Weg ebnen für ein dekarbonisiertes Transportsystem mit zuverlässigem und energieeffizientem Antrieb. Im ersten Jahr rüstete scia Systems eine Sputterkammer mit einem beheizten Substrathalter aus. Dadurch wurde die erforderliche Substrattemperatur von 800 °C beim Sputtern erreicht. Die Kammer wurde an das Fraunhofer FEP übergeben, wo die Installation im zweiten Jahr abgeschlossen wurde. Jetzt prozessiert die Anlage erste epi-AlN-Schichten.

scia Systems erhielt den Zuschlag bei einer Ausschreibung über eine Magnetronsputteranlage für das Institut für Ionenstrahlphysik und Materialforschung am Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf (HZDR). Die voll automatisierte Magnetronsputteranlage zur Abscheidung GMR- und TMR basierter Multilagenschichtsystem überzeugt mit einer sehr guten Homogenität und Reproduzierbarkeit des Schichtstapels über einen Durchmesser von 300 mm.

scia Systems führte im Februar 2020 eine detaillierte Studie zur abschließenden Oberflächenformfehlerkorrektur für das TMT International Observatory LLC durch. Dabei wurde der Prototyp eines 1,4 m großen TMT-Spiegelsegmentes mittels Ionenstrahlpolieren (IBF) auf einer scia Finish 1500 Anlage bearbeitet.

scia Systems liefert zwei scia Finish 1500 an Safran Reosc in Poitiers, Frankreich. Die Anlagen werden zur finalen Polierfehlerkorrektur der hexagonalen Segmente des Hauptspiegels für das Extremely Large Telescope (ELT) der Europäischen Südsternwarte (ESO) genutzt.