Wir freuen uns sehr, den Verkauf einer Cluster-Anlage an das MiQro Innovation Collaborative Centre (C2MI, www.c2mi.ca/en/) in Bromont, Kanada zu verkünden.

Die scia Cluster 200 kann mit einem durchsatzstarken Handling-Roboter sowohl 150 mm als auch 200 mm Standard-Wafer bearbeiten und ist mit drei Prozesskammern ausgestattet: eine für das Ionenstrahltrimmen (scia Trim 200), eine zum Magnetronsputtern (scia Magna 200) und eine zur Plasma-Vorreinigung (scia Etch 200) der Substrate.

C2MI ist Kanadas größtes Zentrum für Forschung und Innovation in der Mikroelektronik und ermöglicht als Center of Excellence die Kommerzialisierung von Prototypen der nächsten Generation für ein breites Feld von Anwendungen, wie Informations- und Kommunikationstechnologien, Automobil, Luft- und Raumfahrt ssowie Umwelt, Life Science und Gesundheit. Das Ionenstrahltrimmsystem wird in C2MI's Klasse10 (ISO4) Mikrofabrikationseinrichtung installiert, um Schichtdicken und Homogenität bei sehr anspruchsvollen MEMS-Anwendungen zu justieren, einschließlich: Photonische Wellenleiterherstellung, optische MEMS oder für spezielle SOI-Wafern mit höherer Gleichmäßigkeit der Bauteilschichtdicke.

Die scia Magna 200 Kammer wird viele Möglichkeiten für die Materialabscheidung bieten und die kleinen Targets erlauben die Abscheidung von teurem Material mit einfachem Targetwechsel für Tests oder Prototyping mit begrenzten Volumen.

Wir freuen uns, dass unser System Teil der Spitzenausrüstung bei C2MI sein wird und damit dazu beiträgt, Produkte vom Forschungsstadium bis zur Kommerzialisierung von Produkten mit Mehrwert zu entwickeln.