Aktuelle Nachrichten

Neuer Vortrag: Reaktives Ionenstrahlätzen von Lithiumniobat für PIC

In ihrem Vortrag auf dem Photonics Spectra Integrated Photonics Summit 2026, erläutert Susanne Hartmann die typischen Herausforderungen beim Ionenstrahlätzen und erklärt, wie das reaktive Ionenstrahlätzen (RIBE) Seitenwandeffekte wie Footing, Fencing und Trenching bei der Bearbeitung von Dünnschicht-Lithiumniobat-Wellenleitern behebt und dadurch geringere optische Verluste in photonischen integrierten Schaltkreisen ermöglicht.

 

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Reaktives Ionenstrahlätzen von Lithiumniobat für PIC

Forschungsprojekt AziTrim: scia Systems entwickelt neuartige Prozesskette für die Herstellung optischer Gitterstrukturen

scia Systems GmbH ist Partner im geförderten Verbundprojekt AziTrim – einem Forschungsvorhaben zur Entwicklung einer optimierten Prozesskette für die Fertigung variabel geneigter Surface Relief Gratings (SRGs) mittels Ionenstrahlätzen.

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Robert Rückriem wird neuer Geschäftsführer

Mit Wirkung zum 1. Januar 2026 vervollständigte Robert Rückriem die Geschäftsführung von scia Systems. Gemeinsam mit Dr. Michael Zeuner und Dr. Michael Gempe wird er das Unternehmen künftig leiten.

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AMTC modernisiert die Produktion von Fotomasken mit einem neuen Clustersystem von scia Systems

Das Advanced Mask Technology Center (AMTC) ein neues Clustersystem von scia Systems erworben, unterstützt durch Tekscend Photomask. Der neu installierte scia Cluster 215 besteht aus zwei Prozesskammern und einem zentralen Handling-Roboter und wurde speziell für das Ionenstrahlätzen optischer Materialien entwickelt.

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Logos AMTC and Tekscend

NEUES WHITEPAPER: Optimierte Slanted Relief Gratings: Methoden mit unterschiedlichen Tiefen und Winkeln für die Produktion von NIL-Master-Stempeln

Augmented Reality (AR) und Mixed Reality (MR) haben sich innerhalb kürzester Zeit von einem futuristischen Konzept zu einer praktischen Technologie entwickelt und damit die Möglichkeiten zahlreicher Branchen verändert. Für die Entwicklung leichter Near-Eye-Displays werden Oberflächenreliefgitter (SRG) eingesetzt, um das Licht von der Quelle in den Wellenleiter einzukoppeln und es anschließend zum Auge hin zu leiten. Ionenstrahltrimming eignet sich als flexibler Ansatz zur Herstellung von SRGs mit unterschiedlichen Grabentiefen.

Diese Studie zeigt, wie reaktives Ionenstrahltrimmen genutzt werden kann, um schräge Gitter mit unterschiedlichen Geometrien hinsichtlich Breite und Abstand herzustellen, die den spezifischen Anforderungen der Nanoimprint-Lithografie entsprechen.

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scia Systems erhält einen Auftrag für eine scia Mill 200 zum Ionenstrahlätzen von der Universität Kiel

Mit der scia Mill 200 wird am Kompetenzzentrum Nanosystemtechnik an der CAU eine zuverlässige Forschungsarbeit auch für zukünftige Forschungsgenerationen ermöglicht.

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scia Systems liefert Technologie zum Ionenstrahlätzen an das kanadische Institut INO

Das Institut National d’Optique (INO), Kanadas größtes Kompetenzzentrum für Optik und Photonik, hat vor Kurzem eine scia Mill 200 an seinem Standort in Québec installiert.

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Logo INO Canada

scia System liefert ein kombiniertes System zum Ionenstrahlsputtern und Ionenstrahlätzen an SPINTEC

SPINTEC, eines der weltweit führenden Forschungslabore im Bereich Spintronik, hat vor kurzem eine scia Coat 200 installiert. Das System nutzt Ionenstrahl-Sputtern (IBS), um glatte, dichte und fehlerfreie Schichten herzustellen, die bei der Produktion von MTJs (Magnetischen Tunnelverbindungen) zum Einsatz kommen.

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Spintec

scia Systems präsentiert auf der SEMICON Korea 2026 Innovationen für die Fehleranalyse und die Fertigung photonisch integrierter Schaltkreise (PIC)

scia Systems wird vom 11. bis 13. Februar auf der SEMICON Korea 2026 im COEX in Seoul ausstellen. Auf der Messe präsentiert das Unternehmen seine Ionenstrahlätzsysteme scia Mill 200 und scia Mill 300, die unter anderem bei der Vorbereitung von Proben zur Fehleranalyse (engl. Failure Analysis, FA) von Halbleiterbauteilen zum Einsatz kommen. Ein weiterer Messeschwerpunkt liegt auf der Fertigung photonisch integrierter Schaltungen (PIC) mithilfe von Ionenstrahlbearbeitung.

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Semicon Korea

Shenzhen Microgate Technology erwirbt Equipment zum Ionenstrahltrimmen von scia Systems

Das chinesische Hightech-Unternehmen Shenzhen Microgate Technology erweitert seinen Reinraum um eine scia Trim 200. Das System gewährleistet eine präzise Oberflächenkorrektur von Dünnschicht- und Wafermaterialien mittels Ionenstrahltrimmen. Schichtdickeninhomogenitäten lassen sich mit der Anlage auf bis zu 0,1 nm reduzieren.

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scia Trim 200 für microgate