scia Systems - From Nano to Infinity

Kompetenz in Dünnschichttechnologie

scia Systems entwickelt Equipment für Prozesse zur präzisen Oberflächenbearbeitung auf Basis fortschrittlicher Ionenstrahl- und Plasmatechnologien. Die Anlagen werden für nanometergenaue Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse eingesetzt – insbesondere in den Industriezweigen MEMS, Mikroelektronik und Präzisionsoptik. Durch ihren flexiblen und modularen Aufbau können die Systeme sowohl für Forschungsanwendungen als auch für die Großserienfertigung konfiguriert werden. Sie eignen sich für die Bearbeitung von kleinen Substratgrößen auf Carriern über Substraten auf Basis von Siliziumwafern bis hin zu Substraten mit bis zu 3 m Durchmesser.

Produkte

Unsere Systeme sind flexibel und modular aufgebaut. Dadurch können wir Ihnen sowohl Standard- als auch Individuallösungen anbieten.

Anwendungen

Unsere Anlagen werden vorrangig für die Herstellung von MEMS & Präzisionsoptiken, aber auch in der Astronomie & Medizintechnik genutzt.

Unternehmen

Anspruchsvoll die neusten Technologien vorantreiben und sich dabei ständig weiterentwickeln - das macht scia Systems aus.

News

Photonische integrierte Schaltkreise (engl. photonic integrated circuits, PICs) bestehen aus verschiedenen optischen Komponenten. Dazu gehören Lichtquellen, Modulatoren, Detektoren und Lichtwellenleiter. Diese Komponenten arbeiten zusammen, um Lichtsignale zu erzeugen, zu steuern und zu empfangen. Unter den für PICs verwendeten Materialien ist Lithiumniobat besonders vielversprechend für optische Wellenleiter und Modulatoren. Sein starker Pockels-Effekt mit einem elektrooptischen Koeffizienten von etwa 30 pm/V ermöglicht eine effiziente Steuerung des Lichts .

Diese Application Note zeigt den Einsatz von Ionenstrahlätzen zur Strukturübertragung bei der Herstellung von Lichtwellenleitern aus Lithiumniobat (LiNbO₃, Abk. LN).

Möchten Sie mehr erfahren? Lesen Sie die vollständige Application Note hier (kostenloser Download):

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Bevorstehende Veranstaltungen

SPIE OPTICS + PHOTONICS

2026-08-23 bis 2026-08-27
San Diego, USA | Stand: 829 (Floorplan)
Präsentation: Moth-eyes-antireflective nanostructures on strongly curved optics by Faraday cage reactive ion etching ►

PSE 2026

2026-08-31 bis 2026-09-03
Erfurt, Germany | Stand: 27
Präsentation: Spatial thickness control in magnetron sputter deposition by pulse-width modulation ►

NFO18

2026-08-31 bis 2026-09-03
Brünn, Tschechien
Partner vor Ort: Vakuum servis