Kompetenz in Dünnschichttechnologie

scia Systems entwickelt Equipment für Prozesse zur präzisen Oberflächen­­­­bearbeitung, basierend auf Ionenstrahl- und Plasmatechnologien. Die Anlagen werden für verschiedene Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse, insbesondere in den Industriezweigen MEMS, Mikroelektronik und Präzisionsoptik eingesetzt. Durch ihren flexiblen und modularen Aufbau können die Systeme sowohl für Forschungsanwendungen als auch für die Großserienfertigung konfiguriert werden. Sie eignen sich für die Bearbeitung von kleinen Substratgrößen auf Carriern über Substraten auf Basis von Siliziumwafern bis hin zu Substraten mit bis zu 3 m Durchmesser.

Produkte

Unsere Systeme sind flexibel und modular auf­gebaut. Dadurch können wir Ihnen sowohl Standard- als auch Individual­lösungen anbieten.

Anwendungen

Unsere Anlagen werden vorrangig für die Her­stel­lung von MEMS & Präzisionsoptiken, aber auch in der Astronomie & Medizintechnik genutzt.

Unternehmen

Anspruchsvoll die neusten Technologien voran­treiben und sich dabei ständig weiterentwickeln - das macht scia Systems aus. 

North Carolina State University bestellt Anlage zum Ionenstrahlätzen bei scia Systems

Die NCSU hat eine scia Mill 200 zur Bearbeitung von Wide-Bandgap (WBG)-Materialien wie Siliziumkarbid und Galliumnitrid erworben. Diese werden in Halbleitern mit großem Bandabstand genutzt, um leistungselektronische Geräte zu ermöglichen, die bei wesentlich höheren Spannungen, Frequenzen und Temperaturen und mit höherer Effizienz arbeiten.

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scia Mill 200

Semicon Japan

2024-12-11 to 2024-12-13
Tokio, Japan
Stand: 6046
Partner vor Ort: Hightec Systems
 

IEEE MEMS

2025-01-19 bis 2025-01-23
Kaohsiung, Taiwan
Stand: 13 (Hallenplan)
Partner vor Ort: AARD Technology & WESi Technolog

SPIE AR | VR | MR

2025-01-28 bis 2025-01-29
San Francisco, USA
Stand: 6410 (Standplan)
Partner vor Ort: AARD Technology
 

Kontakt

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