scia Systems - From Nano to Infinity

Kompetenz in Dünnschichttechnologie

 

scia Systems entwickelt Equipment für Prozesse zur präzisen Oberflächenbearbeitung auf Basis fortschrittlicher Ionenstrahl- und Plasmatechnologien. Die Anlagen werden für nanometergenaue Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse eingesetzt – insbesondere in den Industriezweigen MEMS, Mikroelektronik und Präzisionsoptik. Durch ihren flexiblen und modularen Aufbau können die Systeme sowohl für Forschungsanwendungen als auch für die Großserienfertigung konfiguriert werden. Sie eignen sich für die Bearbeitung von kleinen Substratgrößen auf Carriern über Substraten auf Basis von Siliziumwafern bis hin zu Substraten mit bis zu 3 m Durchmesser.

Produkte

Unsere Systeme sind flexibel und modular auf­gebaut. Dadurch können wir Ihnen sowohl Standard- als auch Individual­lösungen anbieten.

Anwendungen

Unsere Anlagen werden vorrangig für die Her­stel­lung von MEMS & Präzisionsoptiken, aber auch in der Astronomie & Medizintechnik genutzt.

Unternehmen

Anspruchsvoll die neusten Technologien voran­treiben und sich dabei ständig weiterentwickeln - das macht scia Systems aus. 

scia Systems gewinnt Ausschreibung über ein Cluster-System

Das Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS bestellt einen scia Cluster 200 zur Entwicklung von Mikro- und Nanoelektronik. Das System ist für die Bearbeitung von Wafern bis zu 200 mm Durchmesser geeignet und mit Schleusen- und Transferkammer mit Handlingroboter sowie zwei Magnetronsputterkammern und einem Ionenstrahlätzer ausgerüstet.

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Fraunhofer ENAS

EPIC Technology Meeting

2025-11-17
Vortrag von Marcel Demmler: Structuring and Uniformity Improvement of Thin-Film Lithium Niobat and other Waveguide Materials

SEMICON Europa

2025-11-18 bis 2025-11-21
in München
Stand: B1.470 (Hallenplan)
 

Semicon Japan

2025-12-17 bis2025-12-19
Tokyo, Japan
Stand: S2608 (Floorplan)
Partner vor Ort: Hightec Systems

Kontakt

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