Kompetenz in Dünnschichttechnologie

scia Systems entwickelt Equipment für Prozesse zur präzisen Oberflächenbearbeitung, basierend auf Ionenstrahl- und Plasmatechnologien. Die Anlagen werden für verschiedene Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse, insbesondere in den Industriezweigen MEMS, Mikroelektronik und Präzisionsoptik eingesetzt. Durch ihren flexiblen und modularen Aufbau können die Systeme sowohl für Forschungsanwendungen als auch für die Großserienfertigung konfiguriert werden. Sie eignen sich für die Bearbeitung von kleinen Substratgrößen auf Carriern über Substraten auf Basis von Siliziumwafern bis hin zu Substraten mit bis zu 3 m Durchmesser.

Produkte

Entdecken Sie unser breites Spektrum an Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozessen. Unsere Systeme sind flexibel und modular aufgebaut. Dadurch können wir sowohl Standard- als auch individuelle Lösungen für unsere Kunden in aller Welt anbieten.

Finden Sie Ihr passendes System:

Anwendungen

Unsere Systeme werden hauptsächlich in den Branchen Mikroelektronik, MEMS und Präzisionsoptikfertigung genutzt. Sie finden jedoch auch Anwendung im Bereich der Astronomie, Automobil- und Biomedizintechnik.
 

Erkunden Sie unsere Anwendungs-Beispiele:

Unternehmen

scia Systems steht für zuverlässiges Equipment und hohe Standards, um heutigen und zukünftigen Anforderungen gerecht zu werden. Unser erfahrenes und qualifiziertes Team unterstützt Sie dabei, das optimale System- und Prozessdesign für Ihre Produktionsanforderungen zu finden.

Lernen Sie uns kennen:

Karriere

Die Qualifikation und das Engagement unserer Mitarbeiter sind unser Schlüsselfaktor für den Erfolg. Sie wollen in einem hochtechnologischen und wachstumsstarken Marktumfeld eine aktive Rolle spielen und sich eine erfolgreiche Karriere aufbauen? Wir sind immer auf der Suche nach neuen Teammitgliedern, die mit uns wachsen wollen.

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News

EUV-Entwickler von TRUMPF, ZEISS und Fraunhofer mit dem Deutschen Zukunftspreis 2020 ausgezeichnet

Durch die EUV-Lithographie lassen sich wesentlich leistungsfähigere, energieeffizientere und kostengünstigere Mikrochips herstellen als jemals zuvor. Einen wesentlichen Beitrag zur Entwicklung und industriellen Serienreife der EUV-Technologie hat ein Team aus ZEISS-, Trumpf- und Fraunhofer-Experten ihrem Projekt »EUV-Lithographie – Neues Licht für das digitale Zeitalter« geleistet und wurde nun dafür belohnt:

Wir gratulieren unserem Kunden ZEISS zusammen mit Trumpf- und Fraunhofer-Experten zur Auszeichnung mit dem Deutschen Zukunftspreis 2020.

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