Kompetenz in Dünnschichttechnologie

scia Systems entwickelt Prozesssysteme zur präzisen Oberflächenbearbeitung, basierend auf Ionenstrahl- und Plasmatechnologien. Die Anlagen werden für verschiedene Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse, insbesondere in den Industriezweigen MEMS, Mikroelektronik und Präzisionsoptik eingesetzt. Durch ihren flexiblen und modularen Aufbau können die Systeme sowohl für Forschungsanwendungen als auch für die Großserienfertigung konfiguriert werden. Sie eignen sich für die Bearbeitung von kleinen Substratgrößen auf Carriern über Substraten auf Basis von Siliziumwafern bis hin zu Substraten mit bis zu 3 m Durchmesser.

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scia Mill 200 für das Fraunhofer ENAS

Erneut setzt die Fraunhofer Gesellschaft ihr Vertrauen in eine Ionenstrahlätzanlage von scia Systems. Den Zuschlag erhielt scia Systems für die Lieferung einer scia Mill 200 an das Fraunhofer Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS. Die Anlage, mit Aufstellungsort Chemnitz, soll der Strukturierung von magnetischen Multilagen für GMR-Stacks (engl. giant-magneto-resistance) oder TMR-Stacks (engl. tunnel-magneto-resistance) auf standardisierten 200 mm Silizium-Wafern dienen.