scia Systems - From Nano to Infinity

Kompetenz in Dünnschichttechnologie

 

scia Systems entwickelt Equipment für Prozesse zur präzisen Oberflächenbearbeitung auf Basis fortschrittlicher Ionenstrahl- und Plasmatechnologien. Die Anlagen werden für nanometergenaue Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse eingesetzt – insbesondere in den Industriezweigen MEMS, Mikroelektronik und Präzisionsoptik. Durch ihren flexiblen und modularen Aufbau können die Systeme sowohl für Forschungsanwendungen als auch für die Großserienfertigung konfiguriert werden. Sie eignen sich für die Bearbeitung von kleinen Substratgrößen auf Carriern über Substraten auf Basis von Siliziumwafern bis hin zu Substraten mit bis zu 3 m Durchmesser.

Produkte

Unsere Systeme sind flexibel und modular auf­gebaut. Dadurch können wir Ihnen sowohl Standard- als auch Individual­lösungen anbieten.

Anwendungen

Unsere Anlagen werden vorrangig für die Her­stel­lung von MEMS & Präzisionsoptiken, aber auch in der Astronomie & Medizintechnik genutzt.

Unternehmen

Anspruchsvoll die neusten Technologien voran­treiben und sich dabei ständig weiterentwickeln - das macht scia Systems aus. 

Neuer Vortrag: Reaktives Ionenstrahlätzen von Lithiumniobat für PIC

In ihrem Vortrag auf dem Photonics Spectra Integrated Photonics Summit 2026, erläutert Susanne Hartmann die typischen Herausforderungen beim Ionenstrahlätzen und erklärt, wie das reaktive Ionenstrahlätzen (RIBE) Seitenwandeffekte wie Footing, Fencing und Trenching bei der Bearbeitung von Dünnschicht-Lithiumniobat-Wellenleitern behebt und dadurch geringere optische Verluste in photonischen integrierten Schaltkreisen ermöglicht.

 

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Reaktives Ionenstrahlätzen von Lithiumniobat für PIC

SPIE OPTICS + PHOTONICS

2026-08-23 bis 2026-08-27
San Diego, USA | Stand: 829 (Floorplan)
Präsentation: Moth-eyes-antireflective nanostructures on strongly curved optics by Faraday cage reactive ion etching 

PSE 2026

2026-08-31 bis 2026-09-03
Erfurt, Germany | Stand: 27
Präsentation: Spatial thickness control in magnetron sputter deposition by pulse-width modulation 

NFO18

2026-08-31 bis 2026-09-03
Brünn, Tschechien
Partner vor Ort: Vakuum servis

 

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