Aktuelle Nachrichten

Mit Wirkung zum 1. Januar 2026 vervollständigte Robert Rückriem die Geschäftsführung von scia Systems. Gemeinsam mit Dr. Michael Zeuner und Dr. Michael Gempe wird er das Unternehmen künftig leiten.

Das Advanced Mask Technology Center (AMTC) ein neues Clustersystem von scia Systems erworben, unterstützt durch Tekscend Photomask. Der neu installierte scia Cluster 215 besteht aus zwei Prozesskammern und einem zentralen Handling-Roboter und wurde speziell für das Ionenstrahlätzen optischer Materialien entwickelt.

Augmented Reality (AR) und Mixed Reality (MR) haben sich innerhalb kürzester Zeit von einem futuristischen Konzept zu einer praktischen Technologie entwickelt und damit die Möglichkeiten zahlreicher Branchen verändert. Für die Entwicklung leichter Near-Eye-Displays werden Oberflächenreliefgitter (SRG) eingesetzt, um das Licht von der Quelle in den Wellenleiter einzukoppeln und es anschließend zum Auge hin zu leiten. Ionenstrahltrimming eignet sich als flexibler Ansatz zur Herstellung von SRGs mit unterschiedlichen Grabentiefen.

Diese Studie zeigt, wie reaktives Ionenstrahltrimmen genutzt werden kann, um schräge Gitter mit unterschiedlichen Geometrien hinsichtlich Breite und Abstand herzustellen, die den spezifischen Anforderungen der Nanoimprint-Lithografie entsprechen.

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Mit der scia Mill 200 wird am Kompetenzzentrum Nanosystemtechnik an der CAU eine zuverlässige Forschungsarbeit auch für zukünftige Forschungsgenerationen ermöglicht.

Das Institut National d’Optique (INO), Kanadas größtes Kompetenzzentrum für Optik und Photonik, hat vor Kurzem eine scia Mill 200 an seinem Standort in Québec installiert.

SPINTEC, eines der weltweit führenden Forschungslabore im Bereich Spintronik, hat vor kurzem eine scia Coat 200 installiert. Das System nutzt Ionenstrahl-Sputtern (IBS), um glatte, dichte und fehlerfreie Schichten herzustellen, die bei der Produktion von MTJs (Magnetischen Tunnelverbindungen) zum Einsatz kommen.

scia Systems wird vom 11. bis 13. Februar auf der SEMICON Korea 2026 im COEX in Seoul ausstellen. Auf der Messe präsentiert das Unternehmen seine Ionenstrahlätzsysteme scia Mill 200 und scia Mill 300, die unter anderem bei der Vorbereitung von Proben zur Fehleranalyse (engl. Failure Analysis, FA) von Halbleiterbauteilen zum Einsatz kommen. Ein weiterer Messeschwerpunkt liegt auf der Fertigung photonisch integrierter Schaltungen (PIC) mithilfe von Ionenstrahlbearbeitung.

Das chinesische Hightech-Unternehmen Shenzhen Microgate Technology erweitert seinen Reinraum um eine scia Trim 200. Das System gewährleistet eine präzise Oberflächenkorrektur von Dünnschicht- und Wafermaterialien mittels Ionenstrahltrimmen. Schichtdickeninhomogenitäten lassen sich mit der Anlage auf bis zu 0,1 nm reduzieren.

Das Forschungsprojekt "Anlagen- und Prozessentwicklung für die Atomlagenabscheidung Aluminium-basierter Dünnfilme für Barriere, Aktorik und Elektronik – MultiALD" entwickelt neue Verfahren zur Herstellung von Dünnschichten auf Basis des Ausgangsstoffs Trimethylaluminium (TMA) mittels Atomlagenabscheidung (ALD).