Durch die EUV-Lithographie lassen sich wesentlich leistungsfähigere, energieeffizientere und kostengünstigere Mikrochips herstellen als jemals zuvor. Nur damit sind Zukunftstechnologien wie künstliche Intelligenz oder das automatisierte Fahren möglich, weil sie große Rechenleistung auf kleinem Raum ermöglichen.

Einen wesentlichen Beitrag zur Entwicklung und industriellen Serienreife der EUV-Technologie hat dabei ein Team aus ZEISS-, Trumpf- und Fraunhofer-Experten ihrem Projekt »EUV-Lithographie – Neues Licht für das digitale Zeitalter« geleistet und wurde nun dafür belohnt:

Wir gratulieren unserem Kunden ZEISS zusammen mit Trumpf- und Fraunhofer-Experten zur Auszeichnung mit dem Deutschen Zukunftspreis 2020.

Bei der Preisverleihung am 25.11.2020 überreichte der Bundespräsident Frank-Walter Steinmeier den Entwicklern Dr. Sergiy Yulin, Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF, Dr. Peter Kürz, ZEISS Sparte SMT und Dr. Michael Kösters, TRUMPF Lasersystems for Semiconductor Manufacturing den mit 250.000 Euro dotierten Zukunftspreis 2020.

• In diesem Video stellen die drei Visionäre ihr Projekt vor: Abendveranstaltung im Deutschen Museum

• www.deutscher-zukunftspreis.de

Prozessanlagen für EUVL

Auch scia Systems leistet einen Beitrag, die EUVL-Technologie weiterzuentwickeln und somit bedeutende Fortschritte in der Digitalisierung zu ermöglichen. Speziell für EUVL-Anwendungen haben wir Anlagen für die Multilagenbeschichtung für große Substrate sowie UHV-Reinigungssysteme entwickelt.

Kontaktieren Sie uns für weitere Informationen.