Das Institut Solare Brennstoffe des Helmholtz-Zentrums Berlin für Materialien und Energie (HZB) hat im Rahmen einer Ausschreibung scia Systems mit der Lieferung einer Cluster-Beschichtungsanlage beauftragt.

Am HZB sollen damit nanostrukturierte Dünnschichten für die Herstellung von Photoelektroden erzeugt werden. Diese dienen der effizienten Brennstoffgewinnung durch Spaltung von Wasser in Wasserstoff und Sauerstoff. Zur Erzeugung solcher Nanostrukturen ist eine Schichtabscheidung unter streifendem Teilchenbeschuss notwendig (engl. glancing angle deposition, kurz GLAD).

Die scia Vario 100 setzt das GLAD-Prinzip mit einem eigenentwickeltem Substrathalter in Verbindung mit einer automatischen Schlitzblende um. Als Prozessparameter werden dabei die Kippung, Rotation und Temperierung des Substrathalters eingesetzt. Der Abstand zur Beschichtungsquelle sowie die Schlitzweite und -geschwindigkeit können ebenso prozessbezogen angepasst werden. Die Abscheidung erfolgt in getrennten Prozesskammern mittels Elektronenstrahlverdampfen bzw. Dualer Ionenstrahlabscheidung (engl. dual ion beam sputter deposition, kurz DIBD).