Das Fraunhofer-Institut für Zuverlässigkeit und Mikrointegration (IZM) in Berlin hat scia Systems den Zuschlag für eine Ionenstrahlätzanlage erteilt.

Das System wird im Rahmen der vom BMBF unterstützten Initiative „Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland“ beschafft und dient vorrangig der Herstellung von metallischen Mikrostrukturen auf Halbleitersubstraten. Dazu werden je nach abzutragendem Metall und dessen Anordnung im Schichtsystem sowohl inerte Gase, wie zum Beispiel Argon, als auch reaktive Gase bzw. Gasgemische genutzt.

Wir freuen uns, dem Fraunhofer IZM mit der scia Mill 300 eine Ionenstrahlätzanlage für 300 mm Wafer zu liefern. Kernbestandteil der Anlage ist eine neu entwickelte Ionenstrahlquelle für diese Substratgröße. Mit der Weiterentwicklung des bestehenden Produktportfolios kann scia Systems Kundenwünsche für größere Substrate besser bedienen.