Das Fraunhofer Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl und Plasmatechnik FEP aus Dresden arbeitet an der Erschließung innovativer Produktionstechnologien für die Oberflächenbearbeitung. Mit der in Auftrag gegebenen scia Magna 200 sollen Aluminiumnitrid und Siliziumoxid für piezoelektrische und Passivierungsschichten auf SAW-/BAW-Bauteilen abgeschieden werden.

Die scia Magna 200 vereint das fortschrittliche Anlagendesign von scia Systems mit der einzigartigen Doppelring-Magnetronsputterquelle DRM 400 vom Fraunhofer FEP. Diese Kombination ermöglicht eine sehr hohe Homogenität der Beschichtung bei gleichzeitig hohen Abscheidungsraten.