scia Mill 150 zum präzisen Ionenstrahlätzen komplexer Multilagenstrukturen über die gesamte Substratfläche

Chemnitz, 23. April 2026 – Die scia Systems GmbH, Anbieter von Ionenstrahl- und Plasmatechnologien für Mikroelektronik, MEMS und Präzisionsoptik, gab heute den Verkauf einer Ionenstrahlätz-Anlage vom Typ scia Mill 150 an die Shenzhen International Quantum Academy (IQASZ) bekannt. Mit der Erweiterung ihrer Infrastruktur stärkt die Forschungseinrichtung ihre Kompetenzen in den Bereichen Quantentechnologie, Halbleitertechnologie, Photonik und Materialwissenschaften.

Hochpräzises Ionenstrahlätzen mit der scia Mill 150

Die scia Mill 150 ist ein System für das vollflächige Ionenstrahlätzen (Ion Beam Etching, IBE) von Substraten bis 150 mm Durchmesser. 
Der Einsatz eines fokussierten, breiten Ionenstrahls ermöglicht einen kontrollierten, homogenen Materialabtrag und damit die Herstellung komplexer Mikro- und Nanostrukturen mit hoher Präzision und Gleichmäßigkeit. Typische Einsatzbereiche der scia Mill 150 sind Halbleiterfertigung, MEMS-Entwicklung, die Fertigung photonischer Komponenten sowie die Materialanalyse. Das System unterstützt sowohl physikalisches Ionenstrahlätzen als auch chemisch unterstütztes Ätzen (Reactive Ion Beam Etching, RIBE) und bietet hohe Selektivität, Prozessstabilität und Reproduzierbarkeit bei einer Vielzahl von Materialien.

Strukturierung und Passivierung von TMR-Sensoren

AM IQASZ wird die scia Mill 150 zur Herstellung von TMR-Bauteilen (Tunneling Magnetoresistance) eingesetzt. Ionenstrahlätzen ermöglicht eine materialunabhängige Übertragung von Strukturen, was zur Gestaltung komplexer Multilayer-Stapel erforderlich ist. Der auf Argon basierende IBE-Prozess gewährleistet eine kontrollierte und reproduzierbare Abtragung aller Materialien innerhalb des TMR-Stapels.
Zusätzlich zur Ionenstrahlquelle verfügt das gelieferte System über eine integrierte Magnetron-Sputterquelle. Diese Konfiguration ermöglicht neben der Strukturierung auch die In-situ-Passivierung des Multilagenstapels. Die Kombination aus Ionenstrahlätzen und anschließender Passivierung ohne Vakuumunterbrechung innerhalb einer Prozesskammer erhöht sowohl die Prozess- als auch die Bauelementstabilität.

„Wir sind stolz darauf, die Shenzhen International Quantum Academy bei der Installation der scia Mill 150 zu unterstützen, einem System, das für präzise und zuverlässige Oberflächenbearbeitung im Nanobereich entwickelt wurde“, sagte Dr. Michael Zeuner, CEO von scia Systems. „Diese Zusammenarbeit entspricht unserem Anspruch, Forschungseinrichtungen weltweit mit Ionenstrahltechnologie auszustatten, die Innovationen in den Bereichen Halbleiter, Photonik und Geräte der nächsten Generation ermöglicht.“

Durch die Integration der scia Mill 150 bekräftigt das IQASZ sein Engagement, hochmodernes Equipment sowohl zur Grundlagenforschung als auch für angewandte Technologieentwicklung bereitzustellen. Das System wird eine Schlüsselrolle bei der Entwicklung zukünftiger elektronischer, photonischer und mikroelektromechanischer Systeme spielen.

• Weitere Informationen zur scia Mill 150 finden Sie unter www.scia-systems.com/scia-mill-150.
   
• Erfahren Sie mehr über die Technologie des Ionenstrahlätzens.
   
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Die scia Systems GmbH

Das 2013 gegründete Unternehmen scia Systems ist der Spezialist für Dünnschicht-Prozessequipment basierend auf komplexen Ionenstrahl- und Plasmatechnologien. Das Chemnitzer Unternehmen entwickelt und fertigt Anlagen für Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse mit Nanometerauflösung. Die Systeme kommen weltweit in verschiedenen High-Tech-Branchen zum Einsatz, darunter in der Mikroelektronik-, MEMS- und Präzisionsoptikindustrie. Weitere Informationen finden Sie auf der Website des Unternehmens unter www.scia-systems.com.

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