Das Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS bestellt einen scia Cluster 200 für die Entwicklung von Mikro- und Nanoelektronik

Chemnitz, 28.10.2025 - Die scia Systems GmbH, der Technologieführer für hochgenaue, komplexe Ionenstrahl- und Plasmaprozessausrüstung in der Mikroelektronik-, MEMS- und Präzisionsoptikindustrie, freut sich, die Beauftragung eines hochmodernen Cluster-Systems durch das Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS bekannt zu geben. Der scia Cluster 200 wird zukünftig für die Forschung und Entwicklung von innovativen Technologien eingesetzt, die für die heterogene Integration, photonische Schaltkreise und Quantentechnologien entscheidend sind. 

Höchste Flexibilität für Forschung, Entwicklung und Produktion

Der scia Cluster 200 ist eine vielseitige und modulare Plattform zur präzisen Bearbeitung dünner Schichten basierend auf Ionenstrahl- und Plasmatechnologien. Es ermöglicht industrieorientierte Forschung, insbesondere im Bereich der heterogenen Integration und des CMOS-Hybrid-Bondens sowie auf dem Gebiet photonischer Interconnects für Kommunikations- und Quantentechnologien. Bis zu fünf identische oder unterschiedliche Prozesstechnologien zum Beschichten, Ätzen oder Reinigen lassen sich an einer zentralen Beladeeinheit kombinieren. Damit bietet das System maximale Anpassungsfähigkeit vom industriellen Einsatz in der Halbleiter- und Präzisionsoptikfertigung bis hin zu individuellen Forschungs- und Entwicklungsprojekten.

Für höchste Produktivität in der Serienfertigung stehen sogenannte Single-Prozess-Cluster zur Verfügung. Eine oder mehrere Vakuumschleusen sind mit einer zentralen Transferkammer und bis zu fünf identischen Prozesskammern verbunden. Somit kann der Durchsatz bei weniger Platzbedarf und geringeren Kosten im Vergleich zu Einzelkammersystemen deutlich gesteigert werden.

Für komplexe, mehrstufige Verfahren in Forschung und Entwicklung werden Multi-Prozess-Cluster genutzt. Unterschiedliche Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse laufen sequenziell im selben System ohne Unterbrechung des Vakuums. So sinkt die Gesamtprozesszeit. Kontamination und Oxidation werden verhindert, und die Oberflächenqualität bleibt konstant hoch. Ein einfacher Austausch von Prozesskammern oder die spätere Erweiterung sind jederzeit möglich und versprechen eine hohe Zukunftssicherheit.

Magnetronsputtern und Ionenstrahlätzen mit Nanometer-Genauigkeit 

Das Fraunhofer ENAS wird künftig mit dem scia Cluster 200 fortschrittliche Technologien im Bereich der heterogenen Integration für Chipinterfaces und Interposer entwickeln, die für die Integration unterschiedlicher Materialien und Technologien erforderlich sind. Das System ist für die Bearbeitung von Wafern bis zu 200 mm Durchmesser geeignet und mit Schleusen- und Transferkammer mit Handlingroboter sowie zwei Magnetronsputterkammern und einem Ionenstrahlätzer ausgerüstet. Im scia Cluster 200 kommen hochpräzise Prozesse zum Einsatz. Das Ionenstrahlätzen ermöglicht die Strukturierung einer Vielzahl von Materialien auf Atomlagenniveau – von Metallen über Halbleiter bis hin zu Polymeren und Keramiken. Mittels Magnetronsputtern (auch Kathodenzerstäubung) werden Passivierungsschichten und ultradünne Metallschichten im Nano- und Sub-Nanometerbereich abgeschieden. 

„Es freut uns, dass das Fraunhofer ENAS bei der Entwicklung fortschrittlicher Technologien auf Equipment von scia Systems vertraut. Mit dem scia Cluster 200 stellen wir dem Institut eine leistungsfähige Lösung zur Verfügung, die eine breite Palette an Beschichtungs- und Strukturierungsprozessen abdeckt und optimale Voraussetzungen schafft, um die Forschung in diesem zukunftsweisenden Technologiefeld weiter voranzubringen“, sagt Michael Zeuner, Geschäftsführer der scia Systems GmbH. 

Weitere Informationen über scia Cluster 200 finden Sie unter: www.scia-systems.com/scia-cluster-200
Weitere Informationen zum Ionenstrahlätzen: www.scia-systems.com/de/produkte/ionenstrahlaetzen
Weitere Informationen zur Technologie des Magnetronsputterns: www.scia-systems.com/de/produkte/magnetronsputtern

Die scia Systems GmbH

Das 2013 gegründete Unternehmen scia Systems ist der Spezialist für Dünnschicht-Prozessequipment basierend auf komplexen Ionenstrahl- und Plasmatechnologien. Das Chemnitzer Unternehmen entwickelt und fertigt Anlagen für Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse mit Nanometerauflösung. Die Systeme kommen weltweit in verschiedenen High-Tech-Branchen zum Einsatz, darunter in der Mikroelektronik-, MEMS- und Präzisionsoptikindustrie. Weitere Informationen finden Sie auf der Website des Unternehmens unter www.scia-systems.com.
 

Über das Fraunhofer ENAS

Die besondere Stärke des Fraunhofer-Instituts für Elektronische Nanosysteme ENAS liegt in der ganzheitlichen Entwicklung von »intelligenten Systemen« für verschiedenartige Anwendungen. Die Forschungsaktivitäten des Instituts reichen dabei von der Entwicklung neuartiger Wafer- und Packaging-Technologien über die Herstellung von Elektronikkomponenten, Mikro- und Nanosensoren sowie -aktoren bis hin zur Entwicklung von Systemkonzepten und Systemintegrationstechnologien einschließlich der Schnittstellen zur Kommunikation. Mit modernsten und KI-gestützten Test- und Zuverlässigkeitsmethoden überführt das Fraunhofer ENAS die entwickelten Lösungen in die praktische Nutzung. Das Institut begleitet Kundenprojekte von der Idee über den Entwurf, die Technologieentwicklung oder Umsetzung anhand bestehender Technologien bis hin zum getesteten Prototyp. www.enas.fraunhofer.de
 

Kontakt:

scia Systems GmbH
Mandy Gebhardt
Head of Marketing
scia Systems GmbH
Tel: +49 371 33561 322
E-Mail: m.gebhardt@scia-systems.com