​​​​​​Der scia Cluster 200 gewährleistet eine flexible und skalierbare Ionenstrahl- und Plasmabearbeitung für Forschungs-, Entwicklungs- und Produktionsumgebungen.

Chemnitz, 16. Sept. 2025 — Die scia Systems GmbH, der Technologieführer für hochgenaue, komplexe Ionenstrahl- und Plasmaprozessausrüstung in der Mikroelektronik-, MEMS- und Präzisionsoptikindustrie, hat eine neue Cluster-Lösung vorgestellt. Der scia Cluster 200 ist eine modulare Plattform für Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse auf Basis fortschrittlicher Ionenstrahl- und Plasmatechnologien. Das Cluster-System gibt es in zwei unterschiedlichen Ausführungen: Entweder beinhaltet er mehrere identische Prozesskammern, die kombiniert werden, um den Durchsatz erheblich (bis zu fünffach) zu steigern, oder es werden verschiedene Technologien kombiniert, sodass mehrere Prozessschritte nacheinander auf einem Wafer durchgeführt werden können – ohne das Vakuum zu unterbrechen.

Das scia Cluster 200-System kann individuell entsprechend der Anwendung des Kunden konfiguriert werden, wobei bis zu fünf Prozesskammern und bis zu zwei Beladeschleusen an der zentralen Transferkammer installiert werden. Mit dem branchenweit umfassendsten Technologieportfolio bietet scia Systems Clusterlösungen mit den folgenden Prozessen:

• Ionenstrahlätzen
• Ionenstrahltrimmen
• Ionenstrahlabscheidung
• Magnetronsputtern
• Elektronenstrahlverdampfung
• Atomlagenabscheidung
• Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung
• Reaktives Ionenätzen

Aufgrund seiner geringeren Stellfläche, des niedrigeren Energieverbrauchs und der optimierten Logistik bietet der scia Cluster 200 im Vergleich zu einer gleichwertigen Anzahl von Einzelkammer-Prozesssystemen deutlich reduzierte Betriebskosten (TCO). Die bewährte Steuerungssoftware von scia Systems bietet eine einheitliche Rezepturverwaltung über alle Prozessmodule hinweg und sorgt mit den integrierten Messwerkzeugen für optimale Benutzerfreundlichkeit. Durch die Kombination aus hohem Durchsatz, Präzision und Prozessflexibilität in einer einzigen Plattform eignet sich der scia Cluster 200 sowohl für Anwendungen in der Forschung und Entwicklung als auch für die Massenproduktion.

Single-Prozess-Cluster für maximalen Durchsatz

scia Systems bietet Clusteroptionen für Einzelprozesssysteme an, welche für Produktionsumgebungen mit hohem Volumen sowie kritischen Anforderungen an Zuverlässigkeit, Verfügbarkeit und Durchsatz ausgelegt sind. In dieser Konfiguration werden die Substrate gleichzeitig in identischen Prozesskammern bearbeitet, was eine gleichbleibende Qualität und einheitliche Prozessergebnisse garantiert.

Dank der Modularität des Systems lassen sich mit minimalem Aufwand zusätzliche Kammern (bis zu fünf in der maximalen Konfiguration) hinzufügen, um einen höheren Durchsatz zu erreichen. Dies gewährleistet eine zukunftssichere Fertigungsanlage für Hersteller, die sich in eine intelligente und skalierbare Produktionslinie einfügt und den wachsenden Anforderungen an Flexibilität und Skalierbarkeit gerecht wird.

Darüber hinaus ermöglicht die Clusterkonfiguration eine kontinuierliche Prozessverbesserung (CPI), indem neue Prozessrezepte in einer Kammer getestet werden, während in einer anderen Kammer die Produktion kontinuierlich weiterläuft.

Multi-Process-Cluster für sequentielle Prozessschritte ohne Vakuumunterbrechung

Der scia Cluster 200 ist als Prozessplattform für verschiedene Technologien erhältlich. Er ist die ideale Lösung für hochpräzise mehrstufige Prozesse, wie sie bei der Fertigung von Bauelementen der nächsten Generation erforderlich sind. Verschiedene Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse können nacheinander im selben System mit hoher Konsistenz und Effizienz durchgeführt werden. Da keine Transfers zwischen verschiedenen Systemen erforderlich sind, verkürzen sich die Durchlaufzeit sowie die Gesamtprozesszeit.

Darüber hinaus werden die Substrate zwischen den Prozessen ohne Luftkontakt transportiert, wodurch Kontaminationen und Oxidation vermieden werden und die Oberflächenqualität erhalten bleibt. Dank der Modularität des Systems können verschiedene Kammern entsprechend den individuellen Fertigungsansprüchen aufgebaut, ausgetauscht oder aufgerüstet werden.

Eine Vielzahl von Modulkombinationen bietet beispiellose Flexibilität in verschiedenen Anwendungsbereichen 

Neben modernsten Ionenstrahl- und Plasmaprozessen in der MEMS- und Optikfertigung kann der scia Cluster 200 zur Herstellung von zukunftsweisenden Produkten eingesetzt werden. Beispiele hierfür sind: 

• die Herstellung einer dünnen isolierenden Barriereschicht zwischen supraleitenden Materialien für Josephson-Kontakte als Schlüsselkomponenten in Quantencomputern; 
• die Fertigung dreidimensionaler optoelektronischer Mikrostrukturen für PICs, wie z. B. Wellenleiter und andere optische Komponenten; 
• sowie die Herstellung von Fotomasken und Mastern für die Nanoimprint-Lithografie.

Weitere Informationen zum scia Cluster 200 finden Sie unter www.scia-systems.com/scia-cluster-200. 

 
scia Systems auf der SEMICON West

Besucher der SEMICON West, der führenden Messe für Mikroelektronik in Nordamerika, sind herzlich eingeladen, scia Systems vom 7. bis 9. Oktober im Phoenix Convention Center, am Stand 1261 (German Pavillon), in Phoenix, Arizona, zu besuchen. Erfahren Sie mehr über das scia Cluster 200-System sowie weitere innovative Bearbeitungslösungen, die Fortschritte in den Bereichen Künstliche Intelligenz (KI), heterogene Integration, Internet der Dinge (IoT) und vieles mehr ermöglichen.
 

Die scia Systems GmbH

Das 2013 gegründete Unternehmen scia Systems ist der Spezialist für Dünnschicht-Prozessequipment basierend auf komplexen Ionenstrahl- und Plasmatechnologien. Das Chemnitzer Unternehmen entwickelt und fertigt Anlagen für Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse mit Nanometerauflösung. Die Systeme kommen weltweit in verschiedenen High-Tech-Branchen zum Einsatz, darunter in der Mikroelektronik-, MEMS- und Präzisionsoptikindustrie. Weitere Informationen finden Sie auf der Website des Unternehmens unter www.scia-systems.com.

Kontakt:

Mandy Gebhardt
Head of Marketing
scia Systems GmbH
Tel: +49 371 33561 322
E-Mail: m.gebhardt@scia-systems.com