Chemnitz, August 13, 2025. Die scia Systems GmbH, der Technologieführer für hochgenaue, komplexe Ionenstrahl- und Plasmaprozessausrüstung in der Mikroelektronik-, MEMS- und Präzisionsoptikindustrie, gab heute bekannt, dass Shenzhen Simap Electronic Technology Co., Ltd. eine scia Mill 200 erworben hat. Die Anlage wird für das Ätzen von Gräben und die Reinigung von Seitenwänden bei TSV-Wafern (Through Silicon Via) eingesetzt.

"Wir freuen uns, dass Shenzhen Simap Electronic Technology Ionenstrahlequipment von scia Systems präferiert. Unsere scia Mill 200 eignet sich ideal zum hochgenauen Ätzen komplexer Strukturen. Darüber hinaus ist es möglich, Oxidschichten und andere Verunreinigungen von Bauteilen zu entfernen, um die geforderte Oberflächenreinheit zu erreichen“, so Dr. Michael Zeuner, Geschäftsführer von scia Systems.

Präzise Bearbeitung komplexer Oberflächenstrukturen mit der scia Mill 200

Das Ionenstrahlätzen („Ion Beam Etching“, IBE) ist ein hochpräzises Verfahren zur Bearbeitung von Oberflächen. Ein breiter Strahl positiv geladener Ionen wird auf ein Substrat beschleunigt. Die Ionen übertragen die kinetische Energie auf die Oberflächenatome des Substrats, so dass diese herausgeschleudert werden, wodurch das Material abgetragen wird. Das Verfahren ist für eine Vielzahl von Materialien geeignet, darunter Metalle, Halbleiter, Polymere und Keramiken. Zu den Sonderformen des IBE gehören das reaktive Ionenstrahlätzen („Reactive Ion Beam Etching“, RIBE) und das chemisch unterstützte Ionenstrahlätzen („Chemically Assisted Ion Beam Etching“, CAIBE), bei denen reaktive Gase eingesetzt werden, um die Selektivität zu erhöhen, die Grabenwinkel zu beeinflussen oder die Ätzraten zu steigern.

Die scia Mill 200 wird für hochpräzise Ätzprozesse komplexer Multilayer-Materialien mit exzellenter Gleichmäßigkeit bei Wafergrößen von bis zu 200 mm eingesetzt. Typische Anwendungen sind die 2D- und 3D-Strukturierung von Magnetspeichern (MRAM), Sensoren, MEMS und Verbindungshalbleitern.

Informationen zur scia Mill 200 und zu entsprechenden Anwendungsbeispielen finden Sie unter: https://www.scia-systems.com/products/ion-beam-etching/scia-mill-200.