Chemnitz, 23. Mai 2025 — Die scia Systems GmbH, der Technologieführer für hochgenaue, komplexe Ionenstrahl- und Plasmaprozessausrüstung in der Mikroelektronik-, MEMS- und Präzisionsoptikindustrie, wird auf der Laser World of Photonics 2025 vertreten sein. Vom  24. bis 27. Juni 2025 stellt das Unternehmen die neuesten Prozesslösungen zum Beschichten und Strukturieren basierend auf fortschrittlichen Ionenstrahl- und Plasmatechnologien auf der Messe in München vor.  Im Fokus stehen dabei die Beschichtung und Formfehlerkorrektur von Röntgenoptiken, die Strukturierung von optischen Gittern für AR-Brillen und die Erzeugung von Mikrostrukturen für Photonische Integrierte Schaltkreise (PICs).   

Ionenstrahlbearbeitung ermöglicht effiziente und hochgenaue Bearbeitung von Photonisch Integrierten Schaltkreisen (PIC)  

Innovationen im Bereich PICs sind für den Fortschritt der Quantentechnologie von grundlegender Bedeutung und haben das Potenzial, unsere zunehmend datenorientierte Welt immens zu verändern. Das exponentielle Wachstum des Datenverkehrs wird durch Megatrends wie das Internet der Dinge (IoT), 5G und Cloud Computing vorangetrieben. Es sind daher neuartige Lösungen gefragt, die Bandbreite, Effizienz und Geschwindigkeit verbessern. PICs gewinnen zunehmend an Bedeutung, da sie die Möglichkeit bieten, Daten mit optischer Geschwindigkeit zu verarbeiten und zu übertragen, gleichzeitig den Energieverbrauch im Vergleich zu herkömmlichen elektronischen Schaltkreisen deutlich zu senken. 

Die in PICs enthalten photonische Komponenten wie Wellenleiter, Laser, Modulatoren und Detektoren wurden zur Manipulation und Übertragung von Lichtsignalen entwickelt. Dies ermöglicht eine schnelle Datenübertragung und reduziert Signalverluste über große Entfernungen.  

Eine der entscheidenden Bearbeitungstechnologien für die Fertigung von PICs ist das Ionenstrahlätzen. Es ermöglicht die Herstellung dreidimensionaler optoelektronischer Mikrostrukturen für PICs, wie beispielsweise Wellenleiter und andere optische Komponenten mit Genauigkeiten im Nanometer-Bereich.  

Auch das Ionenstrahltrimmen kommt bei der effizienten Herstellung von PICs zum Einsatz. PICs bestehen aus einer Vielzahl von aktiven und passiven optischen Schichten. Die jeweilige Schichtdicke hat einen erheblichen Einfluss auf die optische Leistung. Mittels Ionenstrahltrimmen wird die Schichtdicke im Nanometerbereich korrigiert. Dies minimiert unter anderem die optische Streuung und erhält die Phasenkohärenz, die für die Effizienz und Stabilität photonischer Bauelemente entscheidend ist und gewährleistet somit einen konsistenten und leistungsstarken Betrieb des PIC-Bauteils.  

Zudem kann die Oberfläche von PIC-Bauelementen mittels Ionenstrahl poliert werden. Dies führt zur Verbesserung der Mikro-Rauheit, minimiert Defekte und steigert somit die Ausbeute und Zuverlässigkeit der PIC-Elemente.  

scia Systems bietet angepasste Systemlösungen und Fertigungstechnologien für die Bearbeitung von PICs. Die scia Trim Systeme sind für die Korrektur von Schichtdicken und für das Polieren von optischen Oberflächen bestens geeignet.  Für die Herstellung optischer Mikrostrukturen kommen die scia Mill Systeme zum Einsatz. Beide Anlagentypen sind je nach Ausbaustufe sowohl für die industrielle Volumenproduktion als auch für Forschung und Entwicklung bestens geeignet und kommen bei Kunden in der Präzisionsoptikindustrie zum Einsatz.