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scia Systems erhält einen Auftrag für eine scia Etch 300 von der Ernst-Abbe-Hochschule Jena

Die scia Etch 300 ermöglicht anisotropes reaktives Ionenätzen auf flachen Substraten sowie auf voluminösen dreidimensionalen Körpern.

Chemnitz, 21. März 2024 — Die scia Systems GmbH, der Technologieführer für hochgenaue, komplexe Ionenstrahl- und Plasmaprozessausrüstung in der Mikroelektronik-, MEMS- und Präzisionsoptikindustrie, gab heute bekannt, dass die Ernst-Abbe-Hochschule (EAH) Jena, Thüringens größte und forschungsstärkste Hochschule für Angewandte Wissenschaften, ein scia Etch 300 System zum reaktiven Ionenätzen (RIE) erworben hat. Die Anlage wird zukünftig zur Herstellung fortschrittlicher optischer Oberflächen genutzt werden.

Herstellung von Antireflex-Nanostrukturen auf 3D-Oberflächen

In vielen Bereichen der modernen Optik sind Reflexionen unerwünscht. Konventionell werden diese durch das Aufbringen einer oder mehrerer zusätzlicher Dünnschichten abgemildert oder verhindert. Diese Herstellung von Mehrlagenbeschichtungen ist aufwändig und teuer.

Im Vergleich dazu hat die Verwendung von Antireflex-Nanostrukturen auf optischen Substraten mehrere physikalische Vorteile, darunter das Fehlen von konstruktiven Interferenzeffekten, eine geringe Abhängigkeit vom Einfallswinkel und der Wellenlänge der Strahlung sowie die Vermeidung möglicher Schichtabtragungen. Aufgrund dieser Eigenschaften ist die Optikindustrie bestrebt, Verfahren für die Nanostrukturierung und für hochwertige Antireflexionsschichten zu entwickeln, die nicht nur für ebene Substrate, sondern auch für voluminöse, sphärische und asphärische Linsen geeignet sind.

Im Rahmen des Projektes „arivo3d“ wird dazu an der Ernst-Abbe-Hochschule Jena eine neuartige Methode zur Herstellung von nanostrukturierten Oberflächen entwickelt: Inspiriert von nachtaktiven Insekten, insbesondere Motten, zielen die neuen kegelförmigen Antireflex-Nanostrukturen auf eine breitbandige Entspiegelung ab, ohne auf herkömmliche Dünnschichten zurückzugreifen.

Die scia Etch 300 als Schlüssel zur Herstellung optischer Oberflächen

Die EAH Jena setzt zur Herstellung dieser Antireflex-Nanostrukturen auf das scia Etch 300 System. Mittels reaktiven Ionenätzen (Reactive Ion Etching, RIE) werden sowohl flache Substrate mit Durchmessern bis zu 300 mm, aber auch stark gekrümmte, voluminöse, dreidimensionale Körper, wie zum Beispiel Linsen, Spiegel und Prismen strukturiert. Somit kann die Entwicklung reflexionsarmer optischer Komponenten weiter vorangetrieben und die Entwicklung von Antireflex-Nanostrukturen maßgeblich beschleunigt werden.

 

 

Über scia Systems GmbH

scia Systems wurde 2013 gegründet und hat sich seitdem als Technologieführer im Bereich der Dünnschicht-Prozessausrüstung basierend auf fortschrittlichen Ionenstrahl- und Plasmatechnologien etabliert. Die Systeme werden für Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungsprozesse mit Nanometerauflösung eingesetzt und wurden weltweit in verschiedenen High-Tech-Branchen erfolgreich eingesetzt, darunter in der Mikroelektronik-, MEMS- und Präzisionsoptikindustrie. Weitere Informationen finden Sie auf der Website des Unternehmens unter www.scia-systems.com.

 

Kontakt

scia Systems GmbH
Mandy Gebhardt 
Head of Marketing 
Tel.: +49 371 33561 322
E-Mail: m.gebhardt@scia-systems.com