AMTC modernisiert die Produktion von Fotomasken mit einem neuen Clustersystem von scia Systems

Im Rahmen einer strategischen Maßnahme zur Stärkung seiner technologischen Führungsposition hat das Advanced Mask Technology Center (AMTC) ein neues Clustersystem von scia Systems erworben, unterstützt durch Tekscend Photomask. Die Anlage erweitert gezielt die Kapazitäten von AMTC in der Herstellung von Photomasken und Mastervorlagen für die Nanoimprint-Lithografie und ermöglicht es Tekscend-Kunden, schräge Graben- und Gitterstrukturen mit hoher Präzision und Qualität herzustellen.

 

Photomasken sind ein zentrales Element der Halbleiterfertigung – ohne sie ist die Produktion von Chips nicht möglich. Durch die Entwicklung von Photomasken der nächsten Generation unterstützt AMTC seine Kunden dabei, technologische Innovationen voranzutreiben und ihre Wettbewerbsfähigkeit in dynamischen Märkten zu sichern.

Der neu installierte scia Cluster 215 von scia Systems ist ein hochmodernes Clustersystem mit zwei Prozesskammern und einem zentralen Handling-Roboter. Es wurde speziell für das Ionenstrahlätzen (Ion Beam Etching, IBE) optischer Materialien wie Quarz entwickelt und bietet hohe Flexibilität sowie Präzision. Die Installation ist die erste ihrer Art in der Photomaskenproduktion und unterstreicht die Vorreiterrolle von AMTC in der Maskenfertigung.

Die erste Prozesskammer, das scia Mill-System, verfügt über eine große Ionenstrahlquelle zum Ätzen der gesamten Substratfläche. Sie ermöglicht sowohl das Ionenstrahlätzen mit Inertgasen (IBE) als auch reaktive bzw. chemisch unterstützte Verfahren (Reactive / Chemically Assisted Ion Beam Etching, RIBE/CAIBE).

Die zweite Kammer, das scia Trim-System, nutzt einen fokussierten breiten Ionenstrahl mit einem kleinem Fokusdurchmesser, wodurch die Substrate hochpräzise mittels Ionenstrahltrimmen (Ion Beam Trimming, IBE) bearbeitet werden.

Durch die Integration der Ionenstrahltechnologie von scia Systems erweitert AMTC seine Produktionsmöglichkeiten und festigt seine Position als führende Maskenfertigung in Europa. Die Investition ermöglicht es Tekscend, über AMTC hochwertige Photomasken und Master für die Nanoimprint-Lithografie bereitzustellen und damit Innovationen in der globalen Halbleiterindustrie zu unterstützen.

Zu den potenziellen Anwendungsbereichen dieser hochpräzisen Komponenten zählen AR-/MR-/VR-Headsets und Smart Glasses, Sensoren für Smartphones und Automobile sowie modernste medizinische Bildgebungssysteme.

 

Über AMTC

Die Advanced Mask Technology Center GmbH & Co. KG (AMTC) ist ein Joint Venture von GLOBALFOUNDRIES und Tekscend Photomask. AMTC wurde 2002 in Dresden gegründet und ist ein weltweit führendes Zentrum für die Entwicklung und Herstellung von Photolithografie-Masken, die das weltweite Halbleiter-Ökosystem mit Innovation, Präzision und Zuverlässigkeit unterstützen.

Weitere Informationen finden Sie unter www.amtc-dresden.com.

 

Über scia Systems

Die scia Systems GmbH wurde 2013 gegründet und hat ihren Sitz in Chemnitz. Als Anbieter von Anlagen zur präzisen Oberflächenbearbeitung, basierend auf komplexen Plasma- und Ionenstrahltechnologien, konnte sich scia Systems bereits nach kurzer Zeit am weltweiten Markt etablieren. Unsere Kunden sind Unternehmen und Forschungseinrichtungen vor allem aus den Bereichen Mikroelektronik, MEMS und Präzisionsoptikfertigung.

For more information, visit www.scia-systems.com.

Über Tekscend Photomask

Tekscend Photomask Corp. ist der weltweit führende Anbieter von Fotomasken für Halbleiter. Von seinem Hauptsitz in Tokio aus nutzt Tekscend sein weltweites Kundendienstnetzwerk und acht Produktionsstätten an strategisch wichtigen Standorten, um die weltweit fortschrittlichste Fotomasken-Technologie anzubieten. Darüber hinaus hat Tekscend sein Angebot auf Nanoimprint-Formen, Waveguides und andere nanotechnologisch gefertigte Produkte ausgeweitet.

Weitere Informationen finden Sie unter www.photomask.com.