Hochwertige Reinigung und Qualifizierung bis zu 3 m im Durchmesser und 3,4 m Länge

Die scia Clean 1000/1500/3000 Systeme werden zur Trockenreinigung von 3-dimensionalen Substraten mit einem Gewicht von bis zu 14 Tonnen genutzt. Design und Funktionalität der Prozesskammer gewährleisten einen sehr guten Basisdruck und ermöglichen es, auch kleinste Verunreinigungen auf dem Substrat mittels Massenspektroskopie zu quantifizieren.

Eigenschaften und Vorteile

  • Geringer Basisdruck und schnelle Pumpzeiten durch elektropolierte und beheizte Vakuumkammer
  • Separate Substratheizung für gesteigerte Desorption
  • Qualifizierung der Restkontamination mittels hochsensibler Massenspektroskopie
  • Variable Anzahl an Plasmaquellen für verbesserte Reinigung mit H2-Plasma
  • Rezeptsteuerung für reproduzierbare Temperaturrampen und vollautomatische Reinigungszyklen
  • Transfersystem zur Beladung mit schweren Substraten
scia Clean 1000
scia Clean 1500

Anwendungen

  • Reinigung von Röntgenoptiken mit ultrahoher Reinheit
  • Reinigung von Komponenten für Teilchenbeschleuniger
  • Ausgasungsqualifizierung von komplexen Vakuumbaugruppen

Prinzip

  • Entfernung von Verschmutzungen von 3D-Substraten mit Ultrahochvakuum (Vakuumdesorption)
  • Zusätzliche Reinigung möglich durch optionale Substrat- und/oder Kammerbeheizung (Thermische Desorption) sowie Plasmavorreinigung
     

Technologien

Technische Daten

 

scia Clean 1000

scia Clean 1500

scia Clean 3000

Substratgröße (bis zu)

Ø 1000 mm, Länge 850 mm, 500 kg

Ø 1500 mm, Länge 1700 mm, 2 t

Ø 3000 mm, Länge 3400 mm, 14 t

Substratheizung

Strahlungsheizer (7,5 kW) bis zu 250 °C

Strahlungsheizer (20 kW) bis zu 250 °C

Strahlungsheizer (40 kW) bis zu 250 °C

Kammerheizung und -kühlung

Druckwasser-basierte Heizung bis zu 150 °C und Kühlung (16 kW)

Druckwasser-basierte Heizung bis zu 150 °C und Kühlung (48 kW)

Druckwasser-basierte Heizung bis zu 150 °C und Kühlung (96 kW)

Plasmaquellen

Bis zu 2 optionale ICP-Plasmaquellen (PI400), max. 2,5 kW pro Quelle

Bis zu 10 optionale ICP-Plasmaquellen (PI400), max. 2,5 kW pro Quelle

Bis zu 12 optionale ICP-Plasmaquellen (PI400), max. 2,5 kW pro Quelle

Basisdruck

< 5 x 10-9 mbar

< 5 x 10-8 mbar

< 5 x 10-8 mbar

Qualitätskontrolle

Massenspektrometer zur quantitativen Ausgasungsmessung

Systemabmessungen
(L x B x H)

1,60 m x 1,80 m x 2,70 m
(ohne Schaltschrank und Pumpen)

8,00 m x 4,20 m x 3,60 m
(ohne Schaltschrank und Pumpen)

15,00 m x 5,50 m x 4,80 m
(mit Schaltschrank und Pumpen)

Konfiguration

Einzelkammer mit Fronttür, manuelle Beladung mit Transportwagen

Einzelkammer mit Fronttür, Beladung durch Transfersystem mit Transport-Carrier

Softwareschnittstellen

SECS II / GEM, OPC

SECS II / GEM, OPC

SECS II / GEM, OPC

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