scia Batch 350 – Biokompatible Beschichtungen auf 3D- Substraten

durch plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung

scia Batch 350

Die scia Batch 350 wurde für die homogene Be­schichtung von mehreren 3‑dimensionalen Substraten in einem Batch entwickelt. Typische An­wendungen sind bio­kompatible Schichten für medizinische Implantate.

Die scia Batch 350 nutzt eine Hoch­frequenz-Parallel­platten­anordnung. Durch Rotation der einzelnen Substrate, wird eine allseitig homogene Be­schichtung erreicht. Das System ist auch mit zusätzlichen DC-Bias am Substrat­halter erhältlich.

Technische Daten

Substrat­träger­größe

2 Stück mit einer Maximal­größe von 350 mm x 240 mm

Substrat­halter

Wasser gekühlt, gepulster DC‑Bias

Plasmaquelle

HF-Parallel­platten­anordnung, 13.56 MHz

Max. HF Leistung

2 x 600 W

Elektroden­konfiguration

Temperatur: Aufheizung bis zu 400°C; Abstand: Einstellbar zwischen 50 mm und 150 mm

Betriebs­modi

Unabhängige oder gekoppelte Elektroden

Typische Abscheiderate SiC: 5 nm/min

Basisdruck

< 5 x 10-7 mbar

System­abmessungen (L x B x H)

0,90 m x 1,70 m x 2,30 m (ohne Schaltschrank und Pumpen)

Anlagen­konfiguration

1 Prozess­kammer mit manueller Schleuse

Software­schnittstellen

SECS II / GEM

Eigenschaften

  • Zwei eigenständig arbeitende Parallelplattenanordnungen
  • Gekoppelte oder Entkoppelte Betriebsmodi der Elektroden
  • Abscheidung auf 3D‑Substraten in einem Batch
  • Homogener Gaseinlass, in der Nähe vom Entladungsbereich
  • Substrathalter mit DC-Bias

Anwendungen

  • Biokompatible Schichten für medizinische Objekte (z.B.: Stents, Herzschrittmacher)

Prinzip 3D-PECVD-Beschichtung

Prinzip der 3D-PECVD-Beschichtung mit scia Batch 350

Weitere PECVD/RIE Systeme

scia Cube 300/750
für großflächige PECVD und RIE Prozesse