Großflächige Multilagenabscheidung

Die scia Coat 500 wird zur homogenen Beschichtung von großflächigen Substraten für die Präzisionsoptik eingesetzt. Die rezeptgesteuerte Abscheidung erlaubt Multilagenstapel in einer wiederholbaren Qualität. Ein wechselbares Blendensystem (mit bis zu 4 Blenden) kompensiert zudem Parameter und/oder materialabhängige Inhomogenität und ermöglicht die Abscheidung von Schichten mit definierten Gradienten.

Eigenschaften und Vorteile

  • Hervorragende Homogenität durch Überlagerung von Substratrotation und Linearbewegung
  • Bis zu 6 wassergekühlte Targetmaterialien auf einer drehbaren Trommel für einen in-situ-Wechsel
  • Rezeptgesteuerte Multilagenabscheidung mit Schwingquarz und optischem Schichtdickenmonitor (OTM)
  • Kontrollierte Bewegung der Linearachse für Gradientenbeschichtung oder Oberflächenformfehlerkorrektur
  • Optionale Substratheizung bis zu 250 °C zur Optimierung von Schichtspannungen

Anwendungen

Prinzip

  • Primäre Quelle sputtert Material von einem Target auf das kopfüber ausgerichtete Substrat
  • Nutzung der sekundären Quelle für die Substratvorreinigung und/oder Unterstützung während der Abscheidung
     

Technologien

Ionenstrahlsputtern / Ion Beam Sputtering (IBS)
Durch Ionenbeschuss wird Material von einem Target gesputtert und auf dem Substrat abgeschieden.

Duales Ionenstrahlsputtern / Dual Ion Beam Sputtering (DIBS)
Eine zusätzliche Ionenstrahlquelle wird genutzt um die wachsenden Schichten zu beeinflussen.

Ionenstrahlätzen / Ion Beam Etching (IBE)
Ein gebündelter Strahl aus Inertgas-Ionen wird auf ein Substrat gerichtet. Durch den Ionenbeschuss wird das Substrat strukturiert oder Material abgetragen.

Technische Daten

Substratgröße (bis zu)

500 mm x 300 mm

Substrathalter

Linearbewegung von 0.1 mm/min bis zu 15 mm/s, Rotation bis zu 300 U/min (max. Ø 300 mm)

Ionenstrahlquellen

Zwei 380 mm lineare Mikrowellen-ECR-Quellen (LIN380-e)

Neutralisator

Plasma-Brücken-Neutralisator, Filament-getrieben N-DC

Targethalter

Targettrommel mit bis zu 6 neigbaren und wassergekühlten Targets (jedes max. 400 mm x 200 mm)

Typische Abscheiderate

Si: 10 nm/min

Homogenitätsabweichung

≤ 0,5 % over 200 mm dia. (σ/mean)
≤ 2,0 % over 500 mm x 300 mm (σ/mean)

Basisdruck

< 5 x 10-8 mbar

Systemabmessungen (L x B x H)

3,30 m x 1,70 m x 2,00 m (ohne Schaltschrank und Pumpen)

Konfiguration

Einzelkammer, optionale Einzelsubstratschleuse für Substrate bis zu Ø 200 mm

Softwareschnittstellen

SECS II / GEM, OPC

 

Weitere Systeme zum Ionenstrahlsputtern

scia Coat 200

für Multilagenbeschichtungen mit
hoher Qualität auf bis zu 200 mm