scia Coat 500 - Gleichmäßige Multilayer Beschichtungen großer Optiken

durch duale Ionenstrahlabscheidung

scia Coat 500

Die scia Coat 500 wurde zur homogenen Beschichtung von Präzisions­optiken mittels dualer Ionen­strahl­­abscheidung (engl. Dual Ion Beam Deposition / DIBD) entwickelt. Typische Anwendungen sind Mehrlagen­beschichtungen für Röntgen­spiegel und Filter.

Bei der scia Coat 500 trifft der Strahl einer linearen Ionenstrahl­quelle auf ein rechteckiges Sputter­target. Durch diese lineare Geometrie wird eine gute Homogenität der abgeschiedenen Schicht in einer Dimension erreicht. Während­dessen wird das Substrat auf einer linearen Achse senkrecht zum Strahlen­profil bewegt. Dadurch werden eine gute Homogenität oder definierte Gradienten der Beschichtung auch in der zweiten Dimension erreicht. Zusätzlich wird der Substrat­halter um die eigene Achse gedreht und ist mit einem Blenden­system, von bis zu vier Blenden, ausgestattet.

Technische Daten

Substrat­durchmesser

Bis zu 200 mm mit Schleuse
500 mm x 300 mm bei manueller Beladung

Ionenstrahl­quelle

Rechteckige Mikrowellen ECR-Quelle LIN380‑e

Neutralisator

Plasma-Brücken Neutralisator N‑DC

Target­halterTarget­trommel mit 6 Targets (neigbar), jedes max. 400 mm x 200 mm

Typische Abscheiderate

Si: 10 nm/min

Achsen­leistung

Linear von 0,01 mm/min bis zu 15 mm/min; Rotation bis zu 300 U/min

Homogenitäts­abweichung

≤ 0,5 % über 200 mm
≤ 2 % über 500 mm x 300 mm

Basisdruck

< 5 x 10-8 mbar

System­abmessungen (L x B x H)

3,30 m x 1,70 m x 2,10 m (ohne Schaltschrank, Pumpen und Schleuse)

Anlagen­konfigurationen

1 Prozesskammer, 1 Schleuse optional

Software­schnittstellen

SECS II / GEM, OPC auf Anfrage

Eigenschaften

  • Überlagerung von Substratrotation und linearer Bewegung
  • Blendentechnik z.B. für laterale Schichtdickenverteilung
  • Zwei rechteckige Ionenstrahlquellen
  • Sputterquelle mit  fokussiertem linearem Ionenprofil auf Target
  • Assistenzquelle auch zur Vorreinigung
  • Bis zu 6 wassergekühlte Targetmaterialien auf einer Targettrommel
  • Zusätzliche Neigung der Targetoberfläche
  • Kurze Beschichtungszeit präzise kontrollierbar z.B. für dünne Barriereschichten

Anwendungen

Prinzip Ionenstrahlabscheidung

Prinzip der Ionenstrahlabscheidung mit scia Coat 500

Weitere Ionenstrahlensysteme

scia Coat 200
zur Abscheidung auf Wafern
bis zu 200 mm
scia Mill 150
zum Ätzen von Substraten
bis zu 150 mm
scia Mill 200
zum Ätzen von Wafern
bis zu 200 mm
scia Trim 200
zum lokalen Trimmen von Wafern
bis zu 200 mm