Polierfehlerkorrektur für Linsen und Spiegel

Die scia Finish 1500 wird zur Oberflächenformfehlerkorrektur von hochpräzisen optischen Elementen eingesetzt. Durch schnelle Pumpzeiten und die hohen Abtragsraten der Ionenstrahlquelle ist das System für die Großserienproduktion mit 24/7-Betrieb geeignet.

Eigenschaften und Vorteile

  • Langzeitstabiler Prozess für reproduzierbare Qualität der optischen Komponenten
  • Hervorragende Präzision auf großen Flächen
  • Hohe Abtragraten für hohen Durchsatz
  • Einfache Beladung mit großen Substraten durch Schiebetüren
  • Ausgelegt für die Massenproduktion durch kurze Abpumpzeiten

Anwendungen

  • Abschließende Oberflächenformfehlerkorrektur von Linsen und Spiegeln
    • Teleskopspiegel (Zerodur®, SiC, LTEM)
    • Konventionelle Optiken (Quarz und andere Gläser)
    • Ionenstrahlpolieren von Röntgenoptiken (Si)

Prinzip

  • Ionenstrahlpolieren (IBF)
    • Fokussierter Ionenstrahl scannt über die Substratoberfläche, vertikaler Aufbau für möglichst geringe Kontamination
    • Verweilzeitkontrolle zur Entfernung verschiedener Mengen von Material

Technische Daten

Substratgröße (bis zu)

Ø 1500 mm, 400 kg

Achsenleistung

Max. Geschwindigkeit 0,15 m/s, max. Beschleunigung 15 m/s²

Ionenstrahlquelle

37 mm zirkulare HF-Quelle (RF37-i) mit 7 ... 15 mm (FWHM) oder
120 mm zirkulare HF-Quelle (RF120-m) mit 16 ... 36 mm (FWHM),
optionale zweite Ionenstrahlquelle

Neutralisator

HF-Plasma-Brücken-Neutralisator (N-RF)

Typische Abtragraten

SiO2: 14 mm3/h (RF37-i), 96 mm3/h (RF120-m)

Schichtabweichung nach dem Polieren

< 0,5 nm RMS (abhängig von Inputqualität)

Basisdruck

< 1 x 10-6 mbar

Systemabmessungen
(L x B x H)

3,60 m x 7,70 m x 3,40 m
(ohne Schaltschrank und Pumpen)

Konfiguration

Einzelkammer mit Schiebetüren, manuelle Beladung mit Transportwagen, 3-, 4- oder 5-Achsenkontrollsystem für die Ionenstrahlbewegung

Softwareschnittstellen

SECS II / GEM, OPC

 

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