Produktportfolio

Unser breites Spektrum an Ionenstrahl- und Plasmaprozessanlagen ist flexibel und modular aufgebaut. Es kann daher sowohl für Forschungsanwendungen als auch für die Großserienproduktion konfiguriert werden, zum Beispiel in einer "Cluster"- oder "Inline"-Lösung. Unser erfahrenes und qualifiziertes Team hilft Ihnen gern, die optimale Anlagenkonfiguration für Ihre Produktionsanforderung zu finden.

Systeme zum Ionenstrahlätzen

scia Mill 150

zum vollflächigen Ätzen von
Substraten bis zu 150 mm

scia Mill 200

zum vollflächigen Ätzen von
Wafern bis zu 200 mm

scia Trim 200

zur präzisen Oberflächenkorrektur
von Wafern bis zu 200 mm

scia Finish 1500

zur Polierfehlerkorrektur von
Substraten bis zu 1500 mm

Systeme zum Ionenstrahlsputtern

scia Coat 200

für Multilagenbeschichtungen mit
hoher Qualität auf bis zu 200 mm

scia Coat 500

zur großflächigen Multilagenabscheidung
auf bis zu 500 mm x 300 mm

Magnetron Sputtersysteme

scia Magna 200

für anspruchsvolle Waferbeschichtungen
auf bis zu 200 mm

scia Multi 680

zur Multilagenbeschichtung von
großen Substraten bis 680 mm

PECVD/RIE Systeme

scia Batch 350

für 3D-Beschichtungen in Chargen

scia Cube 300

zum großflächigen Ätzen und Beschichten
über 300 mm x 200 mm

scia Cube 750

zum großflächigen Ätzen und Beschichten
über 750 mm x 750 mm

Systeme zur Trockenreinigung

scia Clean 800

für hochwertige Reinigung und Qualifizierung
bis zu Ø 800 mm und 500 mm Höhe

scia Clean 1000/1500/3000

für hochwertige Reinigung und Qualifizierung
bis zu Ø 3 m und 3,4 m Länge

Kundenspezifische Systeme

Maßgeschneiderte Lösungen

für Ihre Bedürfnisse, in verschiedenen Konfigurationen