Produktportfolio von Ionenstrahl- und Plasmaprozessanlagen
Unser breites Spektrum an Ionenstrahl- und Plasmaprozessanlagen ist flexibel und modular aufgebaut. Es kann daher sowohl für Forschungsanwendungen als auch für die Großserienproduktion konfiguriert werden, zum Beispiel in einer "Cluster"- oder "Inline"-Lösung. Unser erfahrenes und qualifiziertes Team hilft Ihnen gern, die optimale Anlagenkonfiguration für Ihre Produktionsanforderung zu finden.
Systeme zum Ionenstrahlätzen
scia Mill 150
zum vollflächigen Ätzen von Substraten bis zu 150 mm
scia Mill 200
zum vollflächigen Ätzen von Wafern bis zu 200 mm
scia Mill 300
zum vollflächigen Ätzen von Wafern bis zu 300 mm
Systeme zum Ionenstrahltrimmen
scia Trim 200
zur präzisen Oberflächenkorrektur
von Wafern bis zu 200 mm
scia Trim 300
zur großflächigen Oberflächenkorrektur von Wafern bis zu 300 mm
scia Finish 1500
zur Polierfehlerkorrektur von
Substraten bis zu 1500 mm
Systeme zum Ionenstrahlsputtern
scia Coat 200
für Multilagenbeschichtungen mit hoher Qualität auf bis zu 200 mm
scia Coat 500
zur großflächigen Multilagenabscheidung auf bis zu 500 mm x 300 mm
scia Opto 300
für Präzisionsbeschichtungen auf Optiken mit bis zu 300 mm Durchmesser
Magnetron Sputtersysteme
scia Magna 200
für anspruchsvolle Waferbeschichtungen
auf bis zu 200 mm
scia Multi 300
für Multilagenabscheidung auf Wafern bis zu 300 mm
scia Multi 500
zur Multilagenbeschichtung von optischen Substraten bis 500 x 300 mm
scia Multi 680
zur Multilagenbeschichtung von großen Substraten bis 680 mm
scia Multi 1500
zur Multilagenbeschichtung von großen Substraten bis 1500 mm
Produkt-Überblick als PDF
Eine PDF mit unserem kompletten Produkt- und Technologieportfolio finden Sie hier ►.